[发明专利]一种天线制造的三维光刻方法无效
| 申请号： | 200810204054.4 | 申请日： | 2008-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN101752643A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 宋玉明;欧立文;张新山;卢晓峰;戴丰;于松涛;唐永玲 | 申请（专利权）人： | 上海安费诺永亿通讯电子有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/00 | 分类号： | H01Q1/00;H01Q1/38;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 夏平 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 天线 制造 三维 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种天线制造的三维光刻方法，包括：提供基体结构件，在基体结构件的表面形成导电层，导电层的上面形成感光油墨层，以及遮蔽，曝光，显影，蚀刻过程，其特征在于：所述导电层形成在基体结构件的三维表面上，所述的感光油墨层形成在导电层的三维表面上，所述的遮蔽和曝光过程都是对感光油墨层的三维表面进行。
2.如权利要求1所述的三维光刻方法，其特征在于，所述感光油墨为一种主要成分对特定光谱敏感而发生化学反应的感光抗蚀油墨。
3.如权利要求2所述的三维光刻方法，其特征在于，所述特定光谱为紫外光。
4.如权利要求1所述的三维光刻方法，其特征在于，所述导电层为金属层。
5.如权利要求4所述的三维光刻方法，其特征在于，所述金属层为铜或者镍或者银层；金属层为一层或一层以上。
6.如权利要求4或者5所述的三维光刻方法，其特征在于，所述金属层为电镀，化学镀，涂或者刷的金属层。
7.如权利要求1所述的三维光刻方法，其特征在于，所述基体结构件为可镀塑胶。
8.如权利要求7所述的三维光刻方法，其特征在于，所述可镀塑胶为ABS。
9.如权利要求1所述的三维光刻方法，其特征在于，若所述导电层需要直接暴露，在蚀刻过程后，所述方法还包括褪膜步骤。
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