[发明专利]基板位置偏离检测系统无效
申请号: | 200810210558.7 | 申请日: | 2008-08-27 |
公开(公告)号: | CN101383307A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 若林真士 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/677;H01L21/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位置 偏离 检测 系统 | ||
1.一种基板位置偏离检测系统,其在从收容至少一枚基板的底部开口容器中取出所述基板或者向所述底部开口容器中收容所述基板的基板取出装置中,在所述基板的取出或者收容时,检测出所述基板的位置偏离,其特征在于:
所述底部开口容器具备:在底部具有开口部的大致呈箱状的主体、自由开闭所述开口部的板状的盖体、和能够收容在所述主体中而且保持所述基板的保持体,所述盖体是将所述保持体载置在所述盖体的上表面,所述保持体以使所述基板与所述盖体的上表面相平行的方式保持所述基板,
所述基板取出装置具有载置所述底部开口容器的载置部和担持所述盖体的担持部,该担持部使所述被载置的底部开口容器的所述盖体与所述保持体一起升降,
具备检测装置,所述检测装置包括:光学部,其被配置在所述担持部并向所述升降方向投射光线同时接收光线;反射部,其在所述被载置的底部开口容器中的主体的顶棚部以与所述光学部相对的方式配置反射所述被投射的光线;和透过部,被配置在所述盖体上使所述被投射的光线和所述被反射的光线在所述升降方向上透过,
所述光学部、所述透过部和所述反射部被配置在所述升降方向上的一条直线上,
所述光学部投射的光线,不被由所述保持体保持在规定的收容位置上的基板遮光。
2.根据权利要求1所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
在关于所述升降方向的平面视图中,所述透过部不被由所述保持体保持在规定的收容位置的基板覆盖。
3.根据权利要求1或2所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
能够检测出被搬送的所述基板遮挡由所述光学部投射的光线的时间。
4.根据权利要求1或2所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
能够检测出搬送所述基板的搬送部遮挡由所述光学部投射的光线的时间。
5.根据权利要求1或2所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
包括多个所述检测装置,
多个所述检测装置各自的所述光学部投射的光线,被沿着规定的搬送通路搬送的所述基板同时遮挡。
6.根据权利要求1或2所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
包括多个所述检测装置,
多个所述检测装置各自的所述光学部投射的光线,被沿着规定的搬送通路搬送所述基板的搬送部同时遮挡。
7.根据权利要求1~2中任一项所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
所述光学部为光电传感器,所述反射部为回归反射板。
8.根据权利要求1~2中任一项所述的基板位置偏离检测系统,其特征在于:
所述基板取出装置为半导体制造系统的构成要素。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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