[发明专利]发光器件及其制造方法有效
申请号: | 200810211500.4 | 申请日: | 2008-09-10 |
公开(公告)号: | CN101615647A | 公开(公告)日: | 2009-12-30 |
发明(设计)人: | 潘晓和 | 申请(专利权)人: | 潘晓和 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;陈立航 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 器件 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本专利申请涉及一种发光器件。
背景技术
与如白炽照明或荧光照明等其它形式的照明相比,如发光 二极管(LED)和固体激光器等固态光源能够提供显著的优势。 例如,当将LED或固体激光器布置成红色、绿色和蓝色元件的 阵列时,它们可以用作白光光源或用作多色显示。在这样的配 置中,固态光源通常比传统的白炽光或荧光更高效,并且产生 更少的热量。尽管固态照明提供了一定优势,但是用于固态照 明的传统半导体结构和器件相对昂贵。与传统固态发光器件有 关的成本之一涉及传统固态发光器件相对低的制造吞吐量。
参照图1,传统的LED结构100包括衬底105,例如,该衬底 105可以由蓝宝石、碳化硅或尖晶石形成。在衬底105上形成缓 冲层(过渡层)110。缓冲层110主要用作浸润层,从而促进蓝宝 石衬底的平滑、均匀的覆盖。缓冲层110一般由GaN、InGaN、 AlN或AlGaN形成,并且厚度约为100到500(埃)。通常使用金 属有机化学气相沉积(MOCVD),来将缓冲层110沉积为薄的非 晶层。
在缓冲层110上形成p型掺杂的III-V族化合物层120。p型掺 杂的III-V族化合物层120一般由GaN制成。在p型掺杂的III-V族 化合物层120上形成InGaN量子阱层130。然后,在InGaN量子阱 层130上形成有源III-V族化合物层140。在层140上形成n型掺杂 的III-V族化合物层150。p型掺杂的III-V族化合物层120可以是n 型掺杂的。在n型掺杂的III-V族化合物层150上形成p型电极 160。在第一III-V族化合物层120上形成n型电极170。
传统LED结构100的一个缺点是与小的衬底尺寸相关的低 的制造吞吐量。例如,提供的蓝宝石或碳化硅衬底的直径一般 为2到4英寸。传统LED结构100的另一个缺点是其层状结构经常 发生断裂。一般难以获得单晶形态的如蓝宝石或碳化硅等合适 的衬底。即使存在缓冲层110,p型掺杂的III-V族化合物层120 也可能由于p型掺杂的III-V族化合物层和衬底之间的不同的热 膨胀和晶格失配而发生断裂或分层。不同的热膨胀和晶格失配 还可能引起LED结构中的弯曲变形(即,卷曲)。结果,可能损 害了LED结构100的发光性能。
因此,需要一种能够克服传统发光系统中的一些或全部缺 点的发光器件。
发明内容
在一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底,其具 有第一表面和第二表面;以及布置在所述第二表面上的、用以 发光的发光层,所述发光层具有不平行于所述第一表面的发光 表面。
在另一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底;以 及布置在所述衬底上的、用以发光的发光层,所述发光层具有 封装区域并且具有大于所述封装区域的发光表面区域。
在另一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底,其 具有第一表面;布置在所述衬底的至少一部分上的发光层,所 述发光层具有不平行于所述第一表面的发光表面;以及布置在 所述发光层的至少一部分下的反射缓冲层,用于反射从所述发 光层发射的光,其中所述反射缓冲层在由所述发光层发射的光 的光谱范围内具有高于30%的反射系数。
在另一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底,其 具有第一表面和在所述第一表面中形成的沟槽;以及布置在所 述沟槽内的、用以发光的发光层,所述发光层具有不平行于所 述第一表面的发光表面,其中所述沟槽外部的所述第一表面包 括至少一个窄于1000微米的宽度尺寸。
在另一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底,其 具有第一表面和在所述第一表面上形成的突起;以及布置在所 述突起上的、用以发光的发光层,所述发光层具有不平行于所 述第一表面的发光表面。
在另一方面,本发明涉及一种发光器件,包括:衬底,其 具有第一表面;在所述衬底中形成的沟槽,其中所述沟槽一部 分由不平行于所述第一表面的多个第一沟槽表面限定;所述第 一表面的至少一部分和所述多个第一沟槽表面上的反射缓冲 层;以及所述反射缓冲层上的发光层,其中所述发光层被配置 为以使光离开所述反射缓冲层的方式发射光,其中所发射的光 被限制在小于180度的立体角内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于潘晓和,未经潘晓和许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810211500.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光装置及发光装置的制造方法
- 下一篇:一种金银花滴丸及其制备方法