[发明专利]基板清洗用双流体喷嘴无效
申请号: | 200810213317.8 | 申请日: | 2008-08-22 |
公开(公告)号: | CN101372001A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | 金奭柱 | 申请(专利权)人: | K.C.科技股份有限公司 |
主分类号: | B05B7/04 | 分类号: | B05B7/04;B08B3/02;B08B3/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;金玉兰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 双流 喷嘴 | ||
1.一种基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于包括:
第一收容部及第二收容部,以用于分别收容互不相同的流体;
用于移送收容于所述第一收容部的第一流体的第一通道,在其端部形成有喷射所述第一流体的第一喷射口;
用于移送收容于所述第二收容部的第二流体的第二通道,在其端部形成有喷射所述第二流体的第二喷射口;
双流体排出部,以用于排出由所述第一喷射口和第二喷射口喷射的流体相混合而生成的双流体;以及
形成在所述第二喷射口的前端部的引导部,以用于将由所述第二喷射口喷射的所述第二流体的喷射方向引导至所述第一喷射口。
2.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于所述第一流体为干燥空气,所述第二流体为清洗液。
3.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于所述第一通道具有第一缓冲部,该第一缓冲部为向形成有所述第一喷射口的端部连续折曲的结构。
4.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于剖面宽度小于所述第一通道的剖面宽度的第一喷射口连接在所述第一通道的通道当中,并且在所述第一通道的末端形成有第二缓冲部。
5.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于由所述第二喷射口喷射的所述第二流体被冲击到所述第一喷射口延伸的侧面而扩散成微细粒子。
6.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于所述引导部呈倾斜面或曲面。
7.根据权利要求1所述的基板清洗用双流体喷嘴,其特征在于所述第一喷射口与所述引导部之间的内角为10°至80°。
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