[发明专利]基板清洗用双流体喷嘴

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板清洗用双流体喷嘴，尤其涉及一种将两种流体混合及放大之后喷射到基板表面的基板清洗用双流体喷嘴。

背景技术

通常，用在半导体晶片或TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay)，PDP(Plasma Display Panel)及EL(Electro Luminescence)显示器等平板显示器(FPD：Flat Panel Display)上的基板是需要高精密加工的一种部件，在其制造过程中防止产生不良尤为重要。并且，随着当今画面向大型化发展，在平板显示器制造工艺中被处理的基板的尺寸也趋于大型化。为了减少使用这种大面积基板制造平板显示器的成本，正在活跃地进行着最小化制造过程中的不良率的研究。

另外，半导体晶片或平板显示器基板等是通过多种制造工艺制造的，而这种制造工艺中表面处理工艺是指用清洗液、蚀刻液或显影液等处理液对基板表面进行处理而清洗(Cleaning)、蚀刻(Etching)、显影(Developing)或剥离(Stripping)基板的工艺。即，在所述表面处理工艺中用所述处理液处理根据传送机(conveyer)等移送机构以一定速度被水平移送或以低倾斜角被倾斜移送的基板的上面、下面或上下两面而清洗、蚀刻、显影或剥离基板。并且，经过包括表面处理工艺的多种制造工艺，基板的表面被颗粒(Particle)及污染物所污染，因而为了清除这些颗粒及污染物，在一部分制造工艺的前后进行所述清洗工艺。清洗工艺为用于清洁基板表面的工艺，例如由药液处理工艺、冲洗(rinse)工艺以及干燥工艺组成，尤其药液处理工艺是为了清除颗粒及污染物而利用去离子水(Deionized Water)或化学制剂(Chemical)等清洗液对基板表面进行处理的工艺。并且，在清洗工艺中，为了清除颗粒及污染物而利用清洗液对基板进行处理时，为了提高清洗能力，提出了在清洗液中混合干燥空气(Clean dry air)而生成双流体，并将生成的双流体放大之后以泡沫(buble)形态冲击到基板表面的基板清洗用双流体喷嘴(以下称为双流体喷嘴)。

图1是现有的基板清洗用双流体喷嘴的剖面图。

参照图1可知，现有基板清洗用双流体喷嘴包括：第一通道11，以用于由主体10内部向喷射部14移送干燥空气；第二通道12，以用于向所述第一通道11的干燥空气的移送路径供给清洗液；移送通道13，其形成于所述第一通道11的移送路径上，且为多次折曲的结构。

通过所述第一通道11移送的干燥空气与通过所述第二通道12移送的清洗液在主体10内部混合而生成双流体。并且，形成在所述主体10内部的双流体沿着移送通道13被移送，并通过主体10最下端的喷射部14以泡沫形态喷射到基板S表面。

所述移送通道13为多次折曲的结构，这种结构相比直线连接，进一步延长了双流体的移送路径，从而可稳定双流体的压力及流量而移送双流体。

但是，现有的双流体喷嘴采取了向主体10内部分别供给清洗液和干燥空气之后简单混合的方式，从而不能生成大小均匀的双流体液滴，因此，降低了清洗效率。尤其，在移送通道13折曲成直角的部位上由于双流体的停滞而产生大量的气泡，因此双流体液滴的大小不能充分地被微粒化，从而现有的双流体喷嘴不足以用于微细的清洗工艺中。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种可生成超微粒态的大小均匀的双流体液滴而喷射该双流体液滴的基板清洗用双流体喷嘴。

为了实现上述目的，本发明包括：第一收容部及第二收容部，以用于分别收容互不相同的流体；用于移送收容于所述第一收容部的第一流体的第一通道，在其端部形成有喷射所述第一流体的第一喷射口；用于移送收容于所述第二收容部的第二流体的第二通道，在其端部形成有喷射所述第二流体的第二喷射口；双流体排出部，以用于排出由所述第一喷射口和第二喷射口喷射的流体相混合而生成的双流体；以及形成在所述第二喷射口的前端部的引导部，以用于将由所述第二喷射口喷射的所述第二流体的喷射方向引导至所述第一喷射口。

如上所述，根据本发明破碎成超微粒态液滴的清洗液和干燥空气混合而生成微细且大小均匀的双流体，从而可显著提高基板清洗效率。并且，本发明的双流体喷嘴为内部不会产生气泡的结构，从而稳定了向基板喷射双流体的压力及流量，因此提高了喷射均匀度。

附图说明

图1是现有的基板清洗用双流体喷嘴的剖面图；