[发明专利]用于制造存储介质的方法无效
| 申请号： | 200810213348.3 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101377930A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 奥村浩祥;山川荣进 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉;吕俊刚 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制造 存储 介质 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制造存储介质的方法，该方法包括以下步骤：
提供引导组件及用于形成存储介质的介质板组件；
设置所述介质板组件及所述引导组件，使得所述介质板组件与所述引导组件彼此靠近，并且所述介质板组件的表面与所述引导组件的表面形成基本上公共的平面；
将用于对所述介质板组件进行抛光的抛光组件引导到所述引导组件的表面上；
将用于对所述介质板组件进行抛光的另一抛光组件引导到所述引导组件的另一表面上；
将所述引导组件上的所述抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的表面进行抛光；以及
同时将所述引导组件上的所述另一抛光组件滑动到所述介质板组件上，以对所述介质板组件的所述另一表面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述介质板组件具有记录层，以将信息记录在所述记录层上并且从所述记录层再现信息。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述引导组件具有基本上与所述介质板组件相同的厚度。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述介质板组件具有衬底并在所述衬底的两侧具有记录层，以将信息记录在所述记录层上并且从所述记录层再现信息。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述介质板组件及所述引导组件被设置为，使得在与将所述抛光组件滑动到所述介质板组件上的方向平行的方向上，所述介质板组件与所述引导组件之间的距离小于所述抛光组件的宽度。
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