[发明专利]超净工作台及单晶硅用原料的制造方法

权利要求书

1. 单晶硅用原料的制造方法，其具备：

通过含有氯硅烷气体和氢气的原料气体的反应使棒状多晶硅析出的硅析出工序；

将上述棒状多晶硅破碎、制成多个块状多晶硅的破碎工序或者将上述棒状多晶硅截断制成规定长度的杆状多晶硅的截断工序；

使用酸将附着在这些上述多晶硅表面的杂质除去的洗涤工序；

通过将洗涤后的上述多晶硅浸渍于纯水槽从而从上述多晶硅的表面除去残留酸的浸渍工序；

将从上述纯水槽提起的上述多晶硅投入干燥机的干燥工序；

从干燥后的上述多晶硅表面除去静电，将上述多晶硅洁净化的洁净化工序，其中，

上述洁净化工序中，在下述的超净工作台的操作台上，使上述多晶硅与上述洁净空气接触，将上述多晶硅洁净化，

所述超净工作台具备：

承载多晶硅的操作台；和

具有相对于上述操作台的上方操作空间包围除了前面之外的三面的侧板和覆盖操作空间上方的顶板、内部形成空洞的箱体，

其中，形成供给孔，该供给孔设置在上述箱体的上述顶板上、同时向上述操作台的上面供给洁净空气，

具有电离器，该电离器将从上述供给孔向上述操作空间供给的上述洁净空气离子化、除去上述操作台上的静电，

在上述箱体的上述侧板上形成吸入上述操作空间内的空气的抽吸孔，

在上述箱体的内部还设有连通上述抽吸孔和上述供给孔之间的连通路，

具有：向上述操作空间供给洁净空气的送风机、和

从由上述送风机供给的上述洁净空气除去微粉末的滤器，

在上述连通路上设置上述滤器和上述送风机。

2. 权利要求1所述的单晶硅用原料的制造方法，其中，上述滤器包括：

设置在上述送风机上游侧、除去粒径大于规定尺寸的粉末的第1滤器；和

设置在上述送风机下游侧、除去通过了上述第1滤器的粉末的第2滤器。

3. 权利要求1或2所述的单晶硅用原料的制造方法，其中，与上述多晶硅接触的上述洁净空气从上述操作台的侧面排出。