[发明专利]处理系统的控制装置、控制方法和存储媒体

说明书

技术领域

本发明涉及对被处理体进行规定的处理的处理系统的控制装置，处理系统的控制方法和存储控制程序的存储媒体；更详细地说，涉及控制处理体的搬送的方法。 

背景技术

近年来，配置在半导体工厂内的处理系统大部分同时具有搬送被处理体的搬送机构和对被处理进行规定处理的二个以上的处理室。在这种情况下，各被处理体如何在多个处理容器中搬送，对提高处理系统的产量，提高生产率很重要。为了高效率地处理被处理体，具有如下方法，即，决定被处理体的搬送目的地，以顺序地将被处理体搬送至多个处理室(以下称为OR搬送) 

在OR搬送中，在由于故障等，在任意的处理室中产生异常的情况下，可以暂时使预定要搬送至产生异常的处理室中的被处理体，保存在载体(carrier)中，再将保存的被处理体搬送至正常的处理室中，由此，尽量不使系统全体的产量降低。因此，以往，提出有根据处理室的运转状况，使搬运路程最优的方案(例如，参照专利文献1～4)。这样，在任何一个处理室由于故障等不能使用的情况下，也可以使用其他的处理室，高效率地处理被处理体。 

[专利文献1]：日本特开2001-93791号公报 

[专利文献2]：日本特开2002-246377号公报 

[专利文献3]：日本特开2002-252263号公报 

[专利文献4]：日本特开平11-67869号公报 

然而，将暂时保存的被处理体重新搬送至正常的处理室，进行所希望的处理时，也有产生问题的情况。例如，在正常的处理室内部没有调整至稳定状态的情况下，在该处理室中进行处理的被处理体有可能成为次品，与同一批中的其他被处理体之间产生特性上的偏差。不能保证该批全体的品质，因此有时不能将包括该批的全部晶片作为产品出厂。 

例如，当被处理体的处理达到各处理室规定的处理块数或处理时间时，对于伴随着反应生成物对处理室内壁的附着或处理室内的各构件的温度等随着时间的变化的处理室内的状态的变化，为了调整处理室内的气氛，必需进行清洁。因此，有时要在产品晶片的处理时间的间隔搬送清洁用晶片。 

另外，在上述清洁后，为了使处理室内的状态稳定，在进行利用批量稳定样件晶片的干燥处理(seasoning)的情况下，要在产品晶片处理的时间的间隔搬送批次稳定样件晶片。在这种情况下，当清洁处理后将被处理件搬送至干燥处理前的处理室中时，由于正常的处理室内部没有调整为稳定状态，所以在该处理室中处理的被处理体会成为次品。 

另外，当在工作中的处理室的内部调整为可接受下一批的气氛后，将现在批次中包含的上述保存的被处理体搬送到该处理室时，通过对被搬送来的被处理体进行处理，处理室内部的气氛变化，会对下一批的处理有不好的影响，例如，当应搬送各晶片使得批处理以清洁处理来结束时，有时会将暂时保存的被处理体搬送至清洁后的处理室中。 

发明内容

如上所述，即使在正常工作的处理室中，根据处理被处理体前实行的处理的内容，有时也最好禁止搬送该被处理体。因此，本发明提供一种处理系统的控制装置、处理系统的控制方法和存储控制程序的存储媒体，根据处理室内的运转状况使搬送路径为最优时，根据此前在处理室中进行的处理的内容，在规定的情况下禁止向决定的搬送目的地进行搬送。 

为了解决上述课题，根据本发明的观点提供一种控制处理系统的装置，该处理系统具有对被处理体进行规定的处理的多个处理室；收纳被处理体的被处理体收纳港栈；在上述多个处理室和上述被处理体收纳港栈之间将被处理体搬送至规定的搬送目的地的搬送机构。该控制装置包括：搬送目的地决定部，决定收纳在上述被处理体收纳港栈 中的被处理体的搬送目的地，以将被处理体依次搬送至上述多个处理室中的正常工作的处理室；保存部，在上述多个处理室的任何一个处于禁止搬入被处理体的状态的情况下，使已将上述禁止搬入的处理室决定为搬送目的地且尚未搬入上述禁止搬入的处理室中的被处理体暂时保存在被处理体收纳港栈中的；以及搬送禁止部，在由上述搬送目的地决定部重新决定上述保存后的被处理体的搬送目的地的情况下，当在新的搬送目的地的处理室中在处理上述保存后的被处理体之前实行的处理满足规定的条件时，禁止将上述保存后的被处理体搬送至新的搬送目的地。