[发明专利]等离子显示屏的封接结构以及封接等离子显示屏的方法

权利要求书

1.一种等离子显示屏的封接结构，所述封接结构包括前基板(4) 和与所述前基板对合的后基板(1)，所述前基板上形成有前介 质层(6)，所述后基板上形成有多条障壁(3)，其特征在于，

所述后基板的封接区域中形成有支撑壁(2)，所述支撑 壁布置在所述障壁的外围；

所述前基板的封接区域中形成有封接槽(5)，所述封接 槽中填充有封接材料(7)，并且所述封接槽与所述支撑壁的位 置对应；

其中，所述前基板与所述后基板对合后所述支撑壁插入 到填充有封接材料的所述封接槽中。

2.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，所述支撑壁与所述障壁通过同一工艺形成，且所述支撑壁 的材料与所述障壁的材料相同。

3.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，所述封接槽形成在所述前介质层上。

4.根据权利要求1或3所述的等离子显示屏的封接结构，其特征 在于，所述封接槽与所述前介质层的材料相同。

5.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，所述支撑壁围绕所述后基板上的显示区域并形成为封闭的 环形支撑壁，而所述封接槽围绕所述前基板上的显示区域并形 成为封闭的环形支撑槽。

6.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，所述支撑壁的高度等于所述障壁的高度，且所述支撑壁的 截面宽度大于或等于一条所述障壁的截面宽度。

7.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，所述封接槽的槽壁的高度小于或等于所述支撑壁的高度， 且所述封接槽的凹槽部分的宽度大于或等于一条所述障壁的 宽度。

8.根据权利要求1所述的等离子显示屏的封接结构，其特征在 于，填充在所述封接槽内的封接材料的高度小于或等于所述封 接槽的槽壁的高度。

9.一种等离子显示屏的封接结构，所述封接结构包括前基板(4) 和与所述前基板对合的后基板(1)，所述前基板上形成有前介 质层(6)，所述后基板上形成有多条障壁(3)，其特征在于，

所述前基板的封接区域中形成有支撑壁；

所述后基板的封接区域中形成有封接槽，所述封接槽位 于所述障壁的外围并且与所述支撑壁的位置对应，所述封接槽 中填充有封接材料；

其中，所述前基板与所述后基板对合后所述支撑壁插入 到填充有封接材料的所述封接槽中。

10.一种封接等离子显示屏的方法，所述等离子显示屏具有权利要 求1-8中任一项所述的等离子显示屏的封接结构，所述方法包 括以下步骤：

a.制作障壁掩膜版，在所述障壁掩膜版的与所述后基板 的封接区域对应的区域中制作用于形成所述支撑壁的支撑壁 图形；

b.在所述后基板上制作障壁底材，将所述障壁底材的覆 盖范围扩大至覆盖所述封接区域上将会形成所述支撑壁的区 域；

c.在所述障壁底材上施加感光层；

d.将所述障壁掩膜版覆盖在所述后基板上，以利用所述 障壁掩膜板对施加有感光层的障壁底材进行曝光；

e.将曝光后的障壁底材进行显影；

f.将显影后的障壁底材进行蚀刻以在所述后基板上得到 所述支撑壁和所述障壁；

g.在已形成在所述前基板上的所述前介质层上制作封接 槽，对已形成的所述前介质层与所述封接槽同时进行烧结；

h.向烧结完成的封接槽中填充封接材料；

i.将已经施加了荧光粉的前基板和后基板对合，并将所 述前基板与所述后基板的对应的封接区域夹紧、固定；

j.将对合固定好的前基板和后基板放入封排炉中进行封 接，其中后基板处于前基板之下。