[发明专利]微电子设备清洗剂

权利要求书

1.一种微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比由下列组分组成：

无机盐                  3～10

表面活性剂              5～10

渗透剂                  5～10

缓蚀剂                  1～5

PH调节剂                1～6

去离子水                余量，

其中，所说的无机盐为磷酸钠、磷酸二钠、硫酸钠、硫酸三钾或氯化钾；所说的表面活性剂是非离子型表面活性剂，为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所说的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或者乙二醇醚类化合物；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠或钨酸钠；所说的PH调节剂是无机碱、有机碱或者其组合；无机碱是氢氧化钠或氢氧化钾；有机碱是多羟多胺的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比由下列组分组成：

无机盐                  5～10

表面活性剂              5～8

渗透剂                  5～8

缓蚀剂                  3～5

PH调节剂                2～6

去离子水                余量，

其中，所说的无机盐为磷酸钠；所说的表面活性剂和渗透剂为脂肪醇聚氧乙烯醚，所说的脂肪醇聚氧乙烯醚为聚合度为15的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为35的脂肪醇聚氧乙烯醚或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚；所说的表面活性剂为烷基醇酰胺，所说的烷基醇酰胺为月桂酰单乙醇胺；所说的渗透剂为乙二醇醚类化合物，所说的乙二醇醚类化合物为乙二醇乙醚和乙二醇丁醚中的一种或者两种；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠；所说的PH调节剂为多羟多胺，所说的多羟多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺、六羟基丙基丙二胺、乙二胺或四甲基氢氧化铵。

3.根据权利要求1所说的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比由下列组分组成：

磷酸钠                         3

聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚   5

乙二醇乙醚                     10

苯骈三氮唑钠                   1

氢氧化钾                       2

去离子水                       79。