[发明专利]微电子设备清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗剂，具体地说，涉及一种水基型的微电子设备清洗剂。

背景技术

微电子设备部件的清洗是该设备在进行加工、装配、储存和维修等过程中不可缺少的工艺环节。由于微电子设备的电子精密元器件的用量相当大，因此对这类电子部件清洗的工作量和清洗剂的使用量也肯定会相应的增大。目前，对微电子部件的清洗方法，主要有浸洗法、喷洗法以及超声波清洗法等，无论采取哪种清洗方法，都需要使用清洗剂。典型地程序是先在低pH值范围的情况下进行清洗，去除矿物质垢污染物，然后再进行高pH值清洗，去除有机物。有些清洗溶液中加入了洗涤剂以帮助去除严重的生物和有机碎片垢物，同时，可用螯合物来辅助去除胶体、有机物、微生物及硫酸盐垢。现有用于无线电设备清洗剂多为溶剂型，这些清洗剂存在的缺点，首先是清洗效果不很理想，清洗后的电子部件料容易出现黑色的表层，给后续加工带来麻烦，特别对精密元器件的加工造成困惑；其次是对设备腐蚀性较强，增加设备成本；再者，清洗温度和清洗时间很难同时达到理想条件，在清洗效果不变的情况下，往往是在高温下清洗，可以缩短清洗时间，清洗温度降低至室温的情况下，清洗时间就需要延长，一般在室温条件下清洗时间需要10到30分钟。

因此有待研制一种水基型的微电子清洗剂，可在室温条件下提高清洗效果，还能降低对设备的腐蚀性。

发明内容

本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点，提供一种微电子设备清洗剂，能够彻底清洗无线电设备表面油污和锈斑，并能够防止无线电设备表面再次形成锈斑，还能缩短清洗时间，提高工作效率。

本发明的微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份：

无机盐                        3～10

表面活性剂                    5～10

渗透剂                        5～10

缓蚀剂                        1～5

PH调节剂                      1～6

去离子水                      余量，

其中，所说的无机盐为磷酸钠、磷酸二钠、硫酸钠、硫酸三钾或氯化钾；所说的表面活性剂是非离子型表面活性剂，为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所说的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或者乙二醇醚类化合物；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠或钨酸钠；所说的PH调节剂是无机碱、有机碱或者其组合；无机碱是氢氧化钠或氢氧化钾；有机碱是多羟多胺和胺中的一种或多种。

优选地，

本发明的微电子设备清洗剂，按照重量百分比包括如下组份：

无机盐                              5～10

表面活性剂                          5～8

渗透剂                              5～8

缓蚀剂                              3～5

PH调节剂                            2～6

去离子水                            余量，

其中，所说的无机盐为磷酸钠；所说的表面活性剂和渗透剂脂肪醇聚氧乙烯醚为聚合度为15的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为35的脂肪醇聚氧乙烯醚或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚；所说的表面活性剂烷基醇酰胺为月桂酰单乙醇胺；所说的渗透剂剂乙二醇醚类化合物为是乙二醇乙醚和乙二醇丁醚中的一种或者两种；所说的缓蚀剂为苯骈三氮唑钠；所说的PH调节剂多羟多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺、六羟基丙基丙二胺、乙二胺或四甲基氢氧化铵。

更优选地，本发明的微电子设备清洗剂，其特征在于，按照重量百分比包括如下组份：

磷酸钠                                          3

聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚                     5

乙二醇乙醚                                      10

苯骈三氮唑钠                                    1

氢氧化钾                                        2

去离子水                             79。