[发明专利]阵列基板和液晶面板及其制造方法

权利要求书

1.一种阵列基板，包括横纵交叉地设置在第一衬底基板上的多条栅极扫描线和多条数据扫描线，相邻的栅极扫描线和数据扫描线之间形成一个像素区域，每个像素区域包括薄膜晶体管和像素电极，其特征在于，还包括：

抵顶体，设置在所述栅极扫描线上，所述抵顶体独立于所述薄膜晶体管和所述数据扫描线而设置，当所述阵列基板与彩膜基板对盒设置时，所述抵顶体用于与所述彩膜基板上的至少部分柱状隔垫物分别相抵顶，以阻挡所述阵列基板和所述彩膜基板的错位移动。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述抵顶体呈矩阵形式设置，在所述阵列基板和彩膜基板对盒时，至少一个所述抵顶体与对应的柱状隔垫物邻接设置，且该抵顶体的侧面与柱状隔垫物的侧面相抵顶；和/或至少一个所述抵顶体与对应的柱状隔垫物相对设置，且该抵顶体的端面与柱状隔垫物的端面紧密压合。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：

与对应的柱状隔垫物邻接设置的各抵顶体，分别从柱状隔垫物的至少两侧与对应的柱状隔垫物邻接抵顶。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：

呈矩阵形式设置的所述抵顶体，在各矩阵点上的数量为两个，用于分别抵顶对应的两个柱状隔垫物。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于：

每个矩阵点上的两个所述抵顶体，其中一个与对应的柱状隔垫物邻接设置，另一个与对应的柱状隔垫物相对设置。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述抵顶体在阵列基板上的分布密度沿所述阵列基板的中心至所述阵列基板的边缘方向递减。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述抵顶体形成在所述栅极扫描线上时，每个所述抵顶体为两层，邻近所述 栅极扫描线的一层的材质为半导体，远离所述栅极扫描线的一层的材质为金属。

8.一种采用权利要求1～7所述的任一阵列基板的液晶面板，还包括与所述阵列基板对盒设置的彩膜基板，各柱状隔垫物设置在所述彩膜基板的黑矩阵上，其特征在于：各所述柱状隔垫物对应于阵列基板的栅极扫描线设置，且至少部分所述柱状隔垫物分别与对应的所述抵顶体相互抵顶。

9.根据权利要求8所述的液晶面板，其特征在于：所述柱状隔垫物的横截面面积自邻近所述彩膜基板侧起向远离所述彩膜基板侧递减。

10.根据权利要求8所述的液晶面板，其特征在于：所述柱状隔垫物呈矩阵形式设置，在各矩阵点上的数量为两个，分别与对应的两个所述抵顶体相互抵顶。

11.根据权利要求10所述的液晶面板，其特征在于：

各矩阵点上的两个所述柱状隔垫物的长度不等，短的柱状隔垫物与对应的抵顶体相对设置，长的柱状隔垫物与对应的抵顶体邻接设置。

12.一种阵列基板制造方法，在第一衬底基板上采用构图工艺形成包括栅极扫描线、栅电极、栅绝缘层、有源层图形、数据扫描线、源电极、漏电极、钝化层和像素电极的图形，其特征在于：

在所述栅极扫描线上还要形成抵顶体，所述抵顶体独立于所述有源层图形、数据扫描线、源电极和漏电极而设置，当所述阵列基板与彩膜基板对盒设置时，所述抵顶体用于与所述彩膜基板上的至少部分柱状隔垫物分别相抵顶，以阻挡所述阵列基板和所述彩膜基板的错位移动。

13.根据权利要求12所述的阵列基板制造方法，其特征在于，在第一衬底基板上采用构图工艺形成包括所述栅极扫描线、栅电极、栅绝缘层、有源层图形、数据扫描线、源电极、漏电极、钝化层、像素电极和所述抵顶体的图形的步骤具体包括：

步骤A1、在第一衬底基板上采用构图工艺形成包括所述栅极扫描线和栅电极的图形；

步骤A2、在完成所述步骤A1的第一衬底基板上采用构图工艺形成包括所述有源层图形、与数据扫描线、源电极和漏电极的图形，且在形成所述有源层图形、与数据扫描线、源电极和漏电极图形的同时在所述栅极扫描线上形成所述抵顶体；

步骤A3、在完成所述步骤A2的第一衬底基板上采用构图工艺形成包括所述钝化层及所述钝化层上的过孔的图形；

步骤A4、在完成所述步骤A3的第一衬底基板上采用构图工艺形成包括所述像素电极的图形。

14.一种包括权利要求12或13所述的阵列基板制造方法的液晶面板制造方法，还包括彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板制造方法包括：

步骤B1、在第二衬底基板上采用构图工艺形成包括彩膜树脂和黑矩阵的图形；

步骤B2、在所述黑矩阵上形成柱状隔垫物，且至少部分所述柱状隔垫物分别与所述抵顶体相抵顶。