[发明专利]双面镜片制作方法

权利要求书

1.一种双面镜片制作方法，其包括以下步骤：

制作两个透镜预成形体，所述两个透镜预成形体为高分子材料，所述两个透镜预成形体分别具有第一表面及与第一表面相对的第二表面，每个第二表面分别具有多个透镜结构；

对所述两个透镜预成形体进行氧气等离子体表面改性处理，以使每个透镜预成形体的第二表面的高分子材料形成具有不可逆键合性质的基团；

将两个透镜预成形体的第二表面相接触，通过两个第二表面的具有不可逆键合性质的基团之间发生不可逆键合，使两个透镜预成形体贴合形成双面透镜预成形体；

在相邻透镜结构之间沿平行于透镜结构的中心光轴方向切割所述双面透镜预成形体形成多个双面镜片。

2.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述两个透镜预成形体均由表面具有Si-CH3基团的聚二甲基硅氧烷材料制成。

3.如权利要求2所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述双面镜片制作方法进一步包括提供模具，用以制作所述透镜预成形体，所述模具具有与多个透镜结构相对应的多个微结构。

4.如权利要求3所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述微结构呈阵列排布。

5.如权利要求3所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述透镜预成形体采用旋转涂布法将熔融态的聚二甲基硅氧烷涂布于模具，固化后经翻模得到透镜预成形体。

6.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述透镜预成形体由聚甲基丙烯酸甲酯或聚对苯二甲酸二乙酯材料制成。

7.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述氧气等离子体表面改性处理采用真空氧气等离子体清洗机。

8.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述氧气等离子体表面改性处理的氧气起辉电压控制在1500V至1600V，处理时间控制在70秒至60秒。

9.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，在对所述两个透镜预成形体进行氧气等离子体表面改性处理步骤与将所述两个透镜预成形体的第二表面相接触步骤的时间间隔为3分钟至5分钟。

10.如权利要求1所述的双面镜片制作方法，其特征在于，所述双面镜片制作方法进一步包括在贴合形成双面透镜预成形体之后，将所述双面透镜预成形体放置在90度至120度温度条件下，保温1.5小时至2小时的保温步骤。