[实用新型]光罩盒及其限制件

说明书

技术领域

本实用新型是有关于一种光罩盒，特别是有关于一种具有限制件的光罩盒。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(OpticalLithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩(photo mask)。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆(silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，其中SMIF系统的目的是为减少半导体制程的储存及运送过程中所受的微粒过量。

如图1A及图1B所示，为一现有技术的一般的光罩传送盒1，其是由上下盖体11及12组合而成，其中在下盖体12内的两侧边上设置两相对的固持装置121，此固持装置121还包括一些限位片1211及支撑件1212配置其上。此外，在两相对的固持装置121的其中一相邻侧边，则更配置一限制装置122，使得下盖体12由两个固持装置121及一个相邻的限制装置122形成一个近似”ㄇ”字型的结构。因此当一片光罩放入下盖体12时，可通过此”ㄇ”字型的结构来形成固定及支撑光罩。当光罩传送盒1的上下盖体11及12盖合一光罩时，配置在固持装置上的限位片1211及支撑件1212会支撑光罩的边缘，但由于上下盖体11、12盖合时会有间隙产生，使得光罩在运送的过程中会在未设有限制装置的一侧(亦即”ㄇ”型结构的开口)方向上产生位移。如此，不仅使得光罩接触到固持装置121与限制装置122的地方产生磨损，因而降低光罩的使用寿命，并且还会因为磨擦而形成尘粒而影响良率，同时此光罩盒亦会因部分的损坏或磨损，而必须丢弃整个光罩盒，无法继续使用，而产生浪费并导致使用成本提高。

实用新型内容

为解决现有技术的问题，本实用新型的目的是提供一种具有限制件的光罩盒。

本实用新型的一种光罩盒，其包含：

一上盖体；一下盖体，用以与该上盖体组合，形成一内部空间可容纳一光罩；至少一支架，装设于该下盖体；以及至少一限制件；该支架具有至少一第一卡设部，该限制件具有至少一第二卡设部，该限制件是用以与该支架的第一卡设部相互卡持。

该支架的第一卡设部包含有至少一第一顶持面，且该限制件包括：至少一座体，是以组装方式装设于该光罩盒的支架内，具有该第二卡设部，且该第二卡设部包括至少一第二顶持面；以及至少一限位片，设置于该座体上，用以固定该光罩，其中该限制件的第二卡设部与该支架的第一卡设部相互卡持时，该第一顶持面与该第二顶持面相互抵制。

该支架的第一卡设部包含有至少二相对的第一顶持面，且该限制件包括：至少一座体，是以组装方式装设于该光罩盒的支架内，具至少一第二卡设部，且该第二卡设部包括至少二相对的第二顶持面；以及至少一限位片，设置于该座体上，用以固定该光罩，其中该限制件的第二卡设部与该支架的第一卡设部相互卡持时，该第一顶持面与该第二顶持面两两相互抵制。

该光罩盒另包含至少一锁固件将该限制件固设于该光罩盒的支架，且该锁固件为一插销、铆钉或螺丝。

该支架具有至少一侧边以及至少一第一锁固孔设于该侧边；以及该限制件具有至少一第二锁固孔对应于该第一锁固孔。

该锁固件的材料的主要成分为选自于由不锈钢、铝合金及镁合金所构成群组的金属。

该支架或限制件为一高分子材料所形成，且该高分子材料为聚醚醚酮类化合物或聚酰亚胺类化合物。

该支架或限制件为一静电消散材质所形成，且该静电消散材质的电阻值为约10⁴Ω～约10¹¹Ω。

所述的光罩盒，另包含至少一支撑件设于该支架或该座体上。

本实用新型的一种限制件，该限制件的结构包括：至少一座体，是以组装方式装设于该光罩盒的支架，具有至少一第二卡设部，且该第二卡设部包括至少一第二顶持面；以及至少一限位片，设置于该座体上，用以固定并抵持该光罩。