[实用新型]星型点阵结构的涂胶显影设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体设备，特别是用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影工艺处理设备的结构。

背景技术

随着技术的发展，半导体制造厂黄光区内的涂胶显影设备的结构向模块化，高集成度，垂直高度方向发展。为适合中国大陆中小型生产线市场对该产品的工艺生产质量、产能、技术拓展性和可维护性的需求，迫切需要一种既能保证各功能模块和单元体完成各自的工艺生产的实现，又能快速将晶片在各模块与单元体之间传递，保证各个工艺过程的有效衔接，满足高产能的要求，并且该设备占地面积小，能节省半导体生产的基本投入的涂胶显影设备。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型的涂胶显影设备在结构上进行了调整，主要是将各模块、单元体、传送机器人按特定方式排列放置，满足涂胶显影生产中对工艺生产质量、产能、技术拓展性和可维护性的需要。

本实用新型的技术方案是：一种涂胶显影设备的结构，由盒站模块、第一涂胶或显影模块、第二涂胶或显影模块、第一热处理模块、第二热处理模块、传送机器人模块6个功能模块组成，所述的盒站模块是由2个盒站单元和1个对中调整单元组成；所述的第一热处理模块或第二热处理模块是由热处理塔架和多个插装在塔架中的热处理单元体组成；所述的2个盒站单元、2个热处理模块、2个涂胶或显影模块分别占据六边形的六个顶点，1个传送机器人在中心，这样的六边形模块布局组成了星型点阵排布的涂胶显影设备结构。

所述的涂胶或显影模块在盒站单元对面，并排左右各一，对称设计，可以全部是涂胶模块，也可以全部是显影模块。

所述的热处理模块是由热处理塔架和多个插装在塔架中的热处理单元体组成，设置在传送机器人两侧。

所述的热处理中单元体都可以拉出机器外。

所述第一盒站单元和第二盒站单元以110～130度夹角摆放在一个平板上，对中调整单元安装在该平板下面，三者组成一个盒站模块。

本实用新型的优点及有益效果是：

1、本实用新型的工艺模块和热处理单元体是标准化的模块设计产品，便于装载及拆卸，这样不同功能的工艺模块和热处理单元体搭配组合，就可以完成不同的生产工艺，机台的技术拓展性表现优秀。

2、热处理单元体都可以容易拉出机器外，便于维修，维修后也可以迅速回位，大大减少了机器的维修时间，使得设备具有良好的可维护性。

3、应用本实用新型的结构设备，各工艺模块堆叠放置，使得机器占地面积大大减小，仅为1.7平方米，有效地减少了设备的投资成本。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型结构立体图。

其中，TP为对中调整单元、CS1为第一盒站单元、CS2为第二盒站单元、R为传送机器人、COT为涂胶模块、AD为增粘热处理单元体、HP为热板单元体、CP为冷板单元体。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作详细描述。

如图1所示，第一盒站单元CS1和第二盒站单元CS2以110～130度的夹角摆放在一个平板上，对中调整单元TP安装在该平板下面，三者组成一个盒站模块；涂胶模块COT1和涂胶模块COT2是独立的功能单元体；增粘热处理单元体AD1、热板单元体HP1、冷板单元体CP1插装在一个热处理塔架组成第一热处理模块；增粘热处理单元体AD2、热板单元体HP2、冷板单元体CP2插装在另一个热处理塔架组成第二热处理模块；传送机器人R是可以进行旋转、升降及伸缩手臂的传送晶片的传送机器人模块。

传送机器人R放置于各模块中心，各模块围绕其排布。第一盒站单元CS1和第二盒站单元CS2以110～130度夹角摆放在一个平板上，第一热处理模块和第二热处理模块放置在传送机器人R两侧，第一涂胶模块COT1和第二涂胶模块COT2模块并列放置在第一盒站单元CS1和第二盒站单元CS2对面，这样的六边形模块布局组成了星型点阵排布的涂胶显影设备结构。

为满足半导体生产厂的不同生产制程工艺需求，涂胶显影设备中的模块及单元配置也要适应不同的变化，本实用新型的涂胶显影设备可以是双涂胶模块COT，也可以是双显影DEV，这种变化会是使得热处理模块内的AD、HP、CP等热处理单元体的配置发生变化，但总体结构不会变化，各模块都是按照星型点阵方式排布。

为便于维修及维修后可以迅速回位，热处理模块中的热处理单元体都可以拉出机器外，大大减少了机器的维修时间，使得设备具有良好的可维护性。

本实用新型的工作原理是：传送机器人将晶片从片盒站中取出，按照编制好的程序将晶片送入到各涂胶/显影模块及热处理单元体中，完成涂胶显影的生产制程后，将晶片送回到盒站中。