[实用新型]智能化瓷砖真空离子镀膜设备

权利要求书

1、一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统(7)相连的真空室(4)、转件架式多功能样品台(5)、均布于真空室两侧的电弧金属离子源(2)和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台(5)与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极(6)位于转件架式多功能样品台(5)上，并与真空室外气体离子清洗电源(1)相连，电弧金属离子源(2)为30个，离子源与镀件(3)间距为150mm。

2、按权利要求1所述的一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，其特征是所述电弧金属离子源的电源采用IGBT逆变式开关电源，工作电压20-30V，工作电流50-150A。

3、按权利要求2所述的一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，其特征是所述逆变式开关电源整流部分采用三相全桥整流模块，滤波部分由8只470f/450v的电解电容C₁-C₈串、并联组成，正负极两端并联30K/12W放电电阻R₁、R₂，直流与交流变换器采用移相控制全桥逆变结构，开关管Vt₁-Vt₄分别由两只IGBT单管并联组成，并通过各自单一分开的栅极电阻与移相控制电路相连，谐振电感Lr与主功率变压器T初级线圈串联，防偏磁隔直电容采用4只1μf/630V的CBB电容C₉-C₁₂并联组成，主功率变压器T磁芯采用铁氧体磁芯，变比N＝8，次级采用中心抽头的全波整流方式。