[实用新型]LCOS像素单元器件结构无效

专利信息
申请号: 200820074046.8 申请日: 2008-03-13
公开(公告)号: CN201167094Y 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 范义;代永平;范伟 申请(专利权)人: 天津力伟创科技有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L23/522;G02F1/1362
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 代理人: 赵庆
地址: 300384天津市华苑*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: lcos 像素 单元 器件 结构
【权利要求书】:

1、LCOS像素单元器件结构,包括一个N型阱(4)、一个NMOS管和一个电容器,其特征在于,还包括一个PMOS管,所述的N型阱(4)、NMOS管和PMOS管置于P型硅衬底(13)上,P型硅衬底(13)之上覆盖第1层绝缘层(16),第2层绝缘层(18)设置在第1层绝缘层(16)之上,第3层绝缘层(19)设置在第2层绝缘层(18)之上,电容器设置在第3层绝缘层(19)之上。

2、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的NMOS管的漏极(9)、NMOS管的源极(6)、NMOS管的背电极(15)设置在P型硅衬底(13)中,所述的NMOS管的背电极孔塞(17)贯穿第1层绝缘层(16)和第2层绝缘层(18),地线(5)、地线孔塞(20)设置在第3层绝缘层(19)之中,NMOS管的背电极孔塞(17)连接NMOS管的背电极(15)和地线(5)。

3、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的PMOS管的背电极(1)、PMOS管的漏极(2)、PMOS管的源极(6)设置在N型阱(4)中。

4、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的PMOS管的栅极(3)、NMOS管的栅极(11)设置在第1层绝缘层(16)之中。

5、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的PMOS管的背电极孔塞(25)贯穿第1层绝缘层(16)连接电源线,PMOS管的源极孔塞(7)和NMOS管的漏极孔塞(10)贯穿第1层绝缘层(16)。

6、根据权利要求5所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,输入金属连线(8)设置在第2层绝缘层(18)之中,输入金属连线(8)连接PMOS管的源极孔塞(7)和NMOS管的漏极孔塞(10)。

7、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的电容器的绝缘层(23)设置在第3层绝缘层(19)之上,所述的电容器的下电极(22)设置在电容器的绝缘层(23)之中,地线孔塞(20)连接电容器的下电极(22)和地线(5)。

8、根据权利要求1所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的PMOS管的漏极孔塞(12)贯穿第1层绝缘层(16)、第2层绝缘层(18)、第3层绝缘层(19),所述的电容器的绝缘层(23)连接到PMOS管的漏极(2),且所述的NMOS管的源极孔塞(21)贯穿第1层绝缘层(16)、第2层绝缘层(18)、第3层绝缘层(19)、电容器的绝缘层(23)连接到NMOS管的源极(14)。

9、根据权利要求8所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的电容器的上电极(24)设置在电容器的绝缘层(23)之上,且电容器的上电极(24)连接PMOS管的漏极孔塞(12)和NMOS管的源极孔塞(21)。

10根据权利要求1或7或8或9所述的LCOS像素单元器件结构,其特征在于,所述的电容器的绝缘层(23)厚度是50纳米~100纳米。

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