[实用新型]一种抛光磨头无效
| 申请号： | 200820105165.5 | 申请日： | 2008-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN201189631Y | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 陈润添 | 申请（专利权）人： | 陈润添 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B41/047 |
| 代理公司： | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 | 代理人： | 高之波 |
| 地址： | 528000广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一抛光磨头，包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴，其特征在于，所述磨头主体上设有安设磨料的凹槽，所述主轴为单向贯穿的空心圆柱，空心圆柱内设有滚珠，主轴表面及所述凹槽内侧设有细孔。
2.如权利要求1所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体呈圆柱状，安设磨料的凹槽设于磨头主体的圆柱表面。
3.如权利要求1所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体呈圆盘状，安设磨料的凹槽设于磨头主体的底面。
4.如权利要求2或3所述的抛光磨头，其特征在于，所述凹槽呈辐射状分布于磨头主体上，凹槽的截面形状可为圆形、梯形或三角形。
5.如权利要求4所述的抛光磨头，其特征在于，所述磨头主体的底面一侧设有能防止安设于凹槽内的磨料沿所述磨料轴向发生位移的挡盘。
6.如权利要求5所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴上设有定位键，磨头主体内设有与所述定位键适配的键槽，主轴通过定位键与键槽固定于磨头主体内。
7.如权利要求6所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴一端延伸出一轴帽，轴帽外径等于磨头主体的底面直径。
8.如权利要求7所述的抛光磨头，其特征在于，所述主轴上与轴帽相对的一端设有磁吸密封块，密封块吸附于主轴端面。
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