[实用新型]一种抛光磨头无效
申请号: | 200820105165.5 | 申请日: | 2008-05-05 |
公开(公告)号: | CN201189631Y | 公开(公告)日: | 2009-02-04 |
发明(设计)人: | 陈润添 | 申请(专利权)人: | 陈润添 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/047 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 | 代理人: | 高之波 |
地址: | 528000广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 | ||
技术领域
本实用新型属于磨削、抛光设备,具体涉及一种抛光磨头。
背景技术
抛光磨头,一般包括磨头主体部分、磨料及主轴,抛光磨头接在抛光机械上,可以对石材、木材、及陶瓷进行磨削以及抛光,根据磨头的形状及结构,可以进行平面加工,外圆及内圆加工,广泛应用于木业、石材业及陶瓷业上。抛光磨头所使用的磨料可以为砂纸、油石、金刚石等。传统的磨料与磨头主体固结为一体,或者粘贴、镶嵌在磨头主体外层,磨料磨损快,而当需要加工不同的材料时,就需要整体更换不同的磨头,或者只需更换磨料但费时费力,且磨料得不到充分使用,生产效率亦得不到提高。另外,传统抛光磨头的润滑冷却油的添加,一般采取的是浇注方式,无法精确把握用量,不能充分利用所添之润滑冷却油,造成成本居高不下。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种可自由更换已磨损磨料的抛光磨头,并且采用滴渗式给抛光磨头输送润滑冷却油,能提高生产效率,节省成本。
为实现上述目的,本实用新型采用下列技术方案:一种抛光磨头,包括磨头主体、磨料及穿设于磨头主体内的主轴,磨头主体上设有安设磨料的凹槽,主轴为单向贯穿的空心圆柱,空心圆柱内设有滚珠,主轴表面及凹槽内侧设有细孔。
更优的,磨头主体呈圆柱状,安设磨料的凹槽设于磨头主体的圆柱表向。
更优的,磨头主体呈圆盘状,安设磨料的凹槽设于磨头主体的底面。
更优的,凹槽呈辐射状分布于磨头主体上,凹槽的截面形状可为圆形、梯形或三角形。
更优的,磨头主体的底面一侧设有能防止安设于凹槽内的磨料沿磨料轴向发生位移的挡盘。
更优的,主轴上设有定位键,磨头主体内设有与所述定位键适配的键槽,主轴通过定位键与键槽固定于磨头主体内。
更优的,主轴一端延伸出一轴帽,轴帽外径等于磨头主体的底面直径。
更优的,主轴上与轴帽相对的一端设有磁吸密封块,密封块吸附于主轴端面。
本实用新型在磨头主体上设有凹槽,磨料可以安放在凹槽内,当磨料磨损,只需要更换与凹槽的形状、大小相匹配的磨料即可,或者翻转磨料,使用未磨损部位,从而充分利用磨料;磨头主体上的挡盘以及主轴上的轴帽可以限制磨料在工作时沿着其轴向发生位移,加工效果稳定;主轴呈空心圆柱状,可往里面注入润滑冷却油,并加盖磁吸密封块,抛光磨头工作过程中,旋转主轴内部的滚珠相互碰撞挤压,使润滑冷却油通过主轴表面及磨头主体凹槽内侧的细孔,以滴渗的方式渗透流出,润滑冷却油利用效率高,节能降耗,降低成本。
附图说明
图1为本实用新型整体结构爆炸示意图;
图2为本实用新型装配图;
图3为本实用新型磨盘主体实施例一的结构示意图;
图4为本实用新型主轴结构示意图;
图5为本实用新型磨盘主体实施例二的结构示意图。
图中:1(1′)、磨头主体;11、凹槽;12、挡盘;13、键槽;2、磨料;3、主轴;31、滚珠;32、细孔;33、定位键;34、轴帽;35、密封块
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明
如图1至图4所示,本实用新型公开了一种抛光磨头,它既可以通过电机与抛光机械连接在一起使用,也可以安装在手动工具上。本实用新型抛光磨头包括磨头主体1、磨料2及设置在磨头主体1内的主轴3。主轴3表面上有定位键33,磨头主体1内有与定位键33适配的键槽13,主轴3通过定位键33与键槽13固定于磨头主体1内。
主轴3为单向贯穿的空心圆柱,空心圆柱内放置有多粒滚珠31,主轴3表面及凹槽11内侧均设有细孔32。使用中,可往主轴注入润滑冷却油,并加盖磁吸密封块35,抛光磨头旋转工作时,主轴3内部的滚珠31相互碰撞挤压,润滑冷却油通过主轴3表面及磨头主体凹槽11内侧的细孔32,以滴渗的方式渗透,这样润滑冷却油利用效率高,能降低成本。
主轴3一端有一轴帽34,轴帽34外径等于磨头主体1的底面直径,主轴3上与轴帽34相对的一端有磁吸密封块35,密封块35吸附于主轴3端面。磨头主体1的圆周表面或开设有六道凹槽11,凹槽11呈辐射状排列于磨头主体1的圆周表面,凹槽11的截面形状可为圆形、梯形及三角形,用于放置各种不同形状的磨料2;而为了防止凹槽11内的磨料2沿磨料2的轴向发生位移,磨头主体1的底面一侧设计有挡盘12。磨头主体1上的挡盘12以及主轴3上的轴帽34都可以限制磨料2在工作时沿着其轴向发生位移,工作稳定。
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