[实用新型]定点式厚膜真空溅镀设备

权利要求书

1.一种定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：它包括：

至少一支撑框架，系由复数个矩形框体与复数个杆体所组立之立体框架；

至少一制程室，系设置于该支撑框架上，其内部之二相对侧设置有内部传动装置，并于该内部传动装置上方设置有感应装置；

至少一磁控室，系设置于该制程室上方，其内部设有具复数个溅镀靶材之溅镀阴极，并于外围设有复数个补强肋；

至少一制程室闸门阀，系设置于该制程室外部之一侧。

2.根据权利要求1所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述溅镀靶材为一凸字型结构，倒置固定于该溅镀阴极。

3.根据权利要求2所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述磁控室更包含设置于该溅镀阴极的复数个固定块，其边缘为阶梯状结构与该溅镀靶材边缘吻合并抵接于该溅镀靶材边缘。

4.根据权利要求2所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述溅镀靶材具有复数个螺孔，设置于该溅镀靶材与该溅镀阴极的接触边之两端。

5.根据权利要求1所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

定点式厚膜真空溅镀设备还包括至少一连接至该制程室闸门阀异于该制程室之一侧的负载卸载室。

6.根据权利要求5所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述负载卸载室之二相对侧设置有内部传动装置。

7.根据权利要求6所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述负载卸载室具有设置在该内部传动装置之二侧上方的感应装置。

8.根据权利要求5所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述负载卸载室在异于该制程室闸门阀之一侧设置有进出料闸门阀。

9.根据权利要求8所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：

所述负载卸载室于该进出料闸门阀下方设置有外部传动装置以及连接于该外部传动装置下方的升降装置。

10.根据权利要求1或7所述之定点式厚膜真空溅镀设备，其特征在于：所述感应装置系为光纤传感器。