[实用新型]研磨垫有效

专利信息
申请号: 200820119261.5 申请日: 2008-06-23
公开(公告)号: CN201267964Y 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 施文昌;王昭钦;庄志成;涂良池 申请(专利权)人: 智胜科技股份有限公司
主分类号: B24D17/00 分类号: B24D17/00;B24D3/00;H01L21/304
代理公司: 上海天翔知识产权代理有限公司 代理人: 刘粉宝
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 研磨
【权利要求书】:

1、一种研磨垫,其特征在于,包括:

一研磨层;

一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及

若干填充颗粒,散布于所述透明视窗中,所述若干填充颗粒可减少可见光以下波长的光线的穿透。

2、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为不影响可见光穿透的填充颗粒。

3、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。

4、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述可见光的波长范围为介于400nm至720nm。

5、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒阻隔波长小于400nm的光线。

6、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒散射或反射波长小于400nm的光线。

7、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于100nm。

8、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

9、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

10、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。

11、一种研磨垫,其特征在于,包括:

一研磨层;

一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及

若干填充颗粒,散布于所述透明视窗中,若干填充颗粒为可减少红光以下波长光线穿透的填充颗粒。

12、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为不影响红光穿透的填充颗粒。

13、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述红光的波长范围为介于640nm至720nm。

14、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒阻隔波长小于640nm的光线。

15、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒散射或反射波长小于640nm的光线。

16、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于160nm。

17、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

18、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

19、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布布于所述透明视窗的下半部区域。

20、一种研磨垫,适用于一研磨设备,其特征在于,所述研磨设备具有一光学侦测传感器,所述光学侦测传感器使用一侦测光线,包括:

一研磨层;

一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及

若干填充颗粒,分布于所述透明视窗中,所述若干填充颗粒可减少该侦测光线波长以下的光线的穿透。

21、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒不影响侦测光线穿透的填充颗粒。

22、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述侦测光线为可见光。

23、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。

24、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述侦测光线为红光。

25、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于所述侦测光线波长的1/4。

26、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

27、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

28、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。

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