[实用新型]研磨垫

权利要求书

1、一种研磨垫，其特征在于，包括：

一研磨层；

一透明视窗，设置于所述研磨层中；以及

若干填充颗粒，散布于所述透明视窗中，所述若干填充颗粒可减少可见光以下波长的光线的穿透。

2、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒为不影响可见光穿透的填充颗粒。

3、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。

4、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述可见光的波长范围为介于400nm至720nm。

5、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒阻隔波长小于400nm的光线。

6、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒散射或反射波长小于400nm的光线。

7、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的尺寸小于100nm。

8、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

9、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

10、根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。

11、一种研磨垫，其特征在于，包括：

一研磨层；

一透明视窗，设置于所述研磨层中；以及

若干填充颗粒，散布于所述透明视窗中，若干填充颗粒为可减少红光以下波长光线穿透的填充颗粒。

12、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒为不影响红光穿透的填充颗粒。

13、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述红光的波长范围为介于640nm至720nm。

14、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒阻隔波长小于640nm的光线。

15、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒散射或反射波长小于640nm的光线。

16、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的尺寸小于160nm。

17、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

18、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

19、根据权利要求11所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒分布布于所述透明视窗的下半部区域。

20、一种研磨垫，适用于一研磨设备，其特征在于，所述研磨设备具有一光学侦测传感器，所述光学侦测传感器使用一侦测光线，包括：

一研磨层；

一透明视窗，设置于所述研磨层中；以及

若干填充颗粒，分布于所述透明视窗中，所述若干填充颗粒可减少该侦测光线波长以下的光线的穿透。

21、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒不影响侦测光线穿透的填充颗粒。

22、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述侦测光线为可见光。

23、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。

24、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述侦测光线为红光。

25、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的尺寸小于所述侦测光线波长的1/4。

26、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。

27、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。

28、根据权利要求20所述的研磨垫，其特征在于，所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。