[实用新型]研磨垫有效
申请号: | 200820119261.5 | 申请日: | 2008-06-23 |
公开(公告)号: | CN201267964Y | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 施文昌;王昭钦;庄志成;涂良池 | 申请(专利权)人: | 智胜科技股份有限公司 |
主分类号: | B24D17/00 | 分类号: | B24D17/00;B24D3/00;H01L21/304 |
代理公司: | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘粉宝 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 | ||
1、一种研磨垫,其特征在于,包括:
一研磨层;
一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及
若干填充颗粒,散布于所述透明视窗中,所述若干填充颗粒可减少可见光以下波长的光线的穿透。
2、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为不影响可见光穿透的填充颗粒。
3、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。
4、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述可见光的波长范围为介于400nm至720nm。
5、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒阻隔波长小于400nm的光线。
6、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒散射或反射波长小于400nm的光线。
7、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于100nm。
8、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。
9、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。
10、根据权利要求1所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。
11、一种研磨垫,其特征在于,包括:
一研磨层;
一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及
若干填充颗粒,散布于所述透明视窗中,若干填充颗粒为可减少红光以下波长光线穿透的填充颗粒。
12、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为不影响红光穿透的填充颗粒。
13、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述红光的波长范围为介于640nm至720nm。
14、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒阻隔波长小于640nm的光线。
15、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒散射或反射波长小于640nm的光线。
16、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于160nm。
17、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。
18、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。
19、根据权利要求11所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布布于所述透明视窗的下半部区域。
20、一种研磨垫,适用于一研磨设备,其特征在于,所述研磨设备具有一光学侦测传感器,所述光学侦测传感器使用一侦测光线,包括:
一研磨层;
一透明视窗,设置于所述研磨层中;以及
若干填充颗粒,分布于所述透明视窗中,所述若干填充颗粒可减少该侦测光线波长以下的光线的穿透。
21、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒不影响侦测光线穿透的填充颗粒。
22、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述侦测光线为可见光。
23、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒为抗紫外线填充颗粒。
24、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述侦测光线为红光。
25、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的尺寸小于所述侦测光线波长的1/4。
26、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒的材质包括陶瓷粉末。
27、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒均匀地分布于整个所述透明视窗中。
28、根据权利要求20所述的研磨垫,其特征在于,所述若干填充颗粒分布于所述透明视窗的下半部区域。
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