[实用新型]研磨垫

说明书

技术领域：

本实用新型涉及一种研磨垫，且特别涉及一种用于化学机械研磨制程的研磨垫。

背景技术：

随着产业的进步，平坦化制程经常被采用于生产各种组件。在平坦化制程中，研磨制程经常为产业所使用。一般来说，研磨制程是对被固定的物件施加一个压力以将其压置于研磨垫上，并在物件及研磨垫表面彼此进行相对运动。藉由此相对运动所产生的摩擦，移除部分物件的表面，而使其表面逐渐平坦。

一般来说，为了能够侦测被研磨物件在研磨垫上的研磨情况，都会在研磨垫中设计一个透明视窗。因此，使用光学侦测传感器并透过此透明视窗便可以检测出被研磨物件的光谱变化，进而判断是否已经达到研磨终点。然而，由于透明视窗的存在，外界环境的短波长的光线也可以通过透明视窗而透射到研磨浆液以及被研磨物件。由于研磨浆液及被研磨物件对于短波长的光线相当敏感，因此，长时间下来，研磨浆液及被研磨物件将可能因为从透明视窗透射出的短波长的光线而产生劣化。

实用新型内容：

本实用新型的目的就是提供一种研磨垫，可以减少短波长的光线通过透明视窗而使研磨浆液或被研磨物件产生劣化的问题。

本实用新型提出的一种研磨垫，它包括一研磨层、一设置于研磨层中的透明视窗，以及若干可减少可见光以下波长光线穿透的填充颗粒散布于透明视窗中。

本实用新型提出的另一种研磨垫，它包括一研磨层、一设置于研磨层中的透明视窗，以及若干可减少红光以下波长光线穿透的填充颗粒散布于透明视窗中。

本实用新型提出的另一种研磨垫，适用于一研磨设备，研磨设备具有一光学侦测传感器，光学侦测传感器使用一侦测光线，它包括一研磨层、一设置于研磨层中的透明视窗，以及若干可减少侦测光线波长以下的光线穿透的填充颗粒散布于透明视窗中。

本实用新型由于采用在研磨垫的透明视窗中散布有可减少短波长的光线穿透的填充颗粒，因此外界短波长的光线就不易从透明视窗透射到研磨浆液及被研磨物件，因而可以减少研磨浆液及被研磨物件受到短波长的光线的照射而劣化的问题。

为让本实用新型的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作如下详细说明。

附图说明：

以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本实用新型。

图1为本实用新型一个实施例的研磨垫的侧视图；

图2为本实用新型一个实施例的研磨垫的俯视图；

图3为本实用新型一个实施例的研磨垫的侧视图。

具体实施方式：

图1为本实用新型一个实施例的研磨垫的侧视图。图2为本实用新型一个实施例的研磨垫的俯视图。同时参照图1以及图2，本实施例的研磨垫包括一研磨层102、一透明视窗104以及若干填充颗粒106。

例如研磨层102是由聚合物基材所构成，聚合物基材可以是热固性树脂(thermosetting resin)或热塑性树脂(thermoplastic resin)所合成之聚合物基材。研磨层102除聚合物基材外，另外可以包含导电材料、研磨颗粒、微球体(micro-sphere)或可溶解添加物于此聚合物基材中。另外，研磨层102上可进一步包括形成有多个沟槽。

透明视窗104是设置于研磨层102中并且贯穿研磨层102。透明视窗104的材质为透明的聚合物，例如是透明热固性塑料或热塑性塑料。透明视窗104的形状可以依照实际所需而设计成椭圆形、圆形、方形或是任何适用的形状。

透明视窗104内分布可减少可见光(例如是波长400nm～720nm的可见光)以下波长的光线穿透的若干填充颗粒106，例如是抗紫外线填充颗粒。举例来说，填充颗粒106可阻隔波长小于400nm的光线，例如是散射或反射波长小于400nm的光线，而减少波长小于400nm的光线穿透透明视窗104。依据实验结果，当填充颗粒106的尺寸小于可见光波长的1/4，例如填充颗粒106的尺寸小于100nm时，可阻隔可见光以下波长的光线的穿透且不影响可见光的穿透。此外，填充颗粒106的材质包括陶瓷粉末，例如是氧化硅、氧化钛、氧化铈、氧化铝或是其组合。

当利用此研磨垫于研磨设备进行研磨时，在研磨过程中，可利用具有侦测光线为可见光(例如是波长400nm～720nm的可见光)的光学侦测传感器，将可见光由研磨垫的底部经由透明视窗104射向被研磨物件202的表面，以侦测被研磨物件202的光谱变化，进而判断是否已经达到研磨终点。