[实用新型]一种12英寸硅片腐蚀机上装硅片用花篮有效

专利信息
申请号: 200820124483.6 申请日: 2008-12-11
公开(公告)号: CN201309966Y 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: 陈海滨;库黎明;葛钟;索思卓;黄军辉;张国栋;盛方毓;闫志瑞 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 郭佩兰
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 12 英寸 硅片 腐蚀 上装 花篮
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种12英寸硅片腐蚀机上装硅片用花篮,该花篮采用每次装一片硅片进行腐蚀的设计。

技术背景

12英寸硅抛光片一般要经过直拉,切片,磨削,腐蚀,抛光,清洗等工艺,在磨削工艺后要加入腐蚀工艺以便去除磨削工艺留下的损伤层。加入腐蚀工艺虽然可以去除损伤层,但也带来一些不利影响,比如在腐蚀的过程中,硅片边缘和花篮接触的地方会留下腐蚀印(由硅片和花篮接触的部位腐蚀不充分导致),留有腐蚀印的地方在抛光和清洗后发现是颗粒集中的地方。目前,硅片竖立放置,硅片和花篮采用面接触,是半导体工厂采用的比较普遍的方式。硅片竖立放置,虽然可以增加每次腐蚀的硅片数,增加产量,但也因为硅片各部位在进入腐蚀槽以及从腐蚀槽取出时时间不一致,带来各部位腐蚀不均匀从而导致TTV增加的问题,本实用新型中,采用硅片横放的方式,减少了硅片各部位腐蚀时间的不一致,使得硅片TTV得到改善;硅片和花篮采用点接触的方式,减少了硅片和花篮接触的面积,可以让硅片腐蚀后减少硅片产生腐蚀印的几率。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种12英寸硅片腐蚀机上装硅片用花篮,该花篮减少硅片和花篮接触的面积,可以让硅片腐蚀后减少硅片产生腐蚀印的几率。

为达到上述发明目的,本实用新型采用以下技术方案:(1)正四边形的花篮主体;(2)位于花篮主体上方、并与花蓝主体相接的支架,支架上装有用来防止腐蚀过程中硅片飘出花篮的阻挡杆。

正四边形的其中两个对边,分别由四根立方形条为支架,两头和中间分别用方块连结而成;另外的两个对边,分别由两根立方形条和以一个方块连结而成。

正四边形花篮主体的四个边中部各设一个支撑在硅片下方的支撑片。

支撑片中的两个片位于里面下方的那根立方形条的中点,支撑片的另外两个片位于下边的那根立方形条的中点。

本实用新型的优点是:采用硅片横放的方式,每次花篮装一片硅片进行腐蚀,虽然降低了产量,但因为减少了硅片各部位腐蚀时间的不均匀,可以改善硅片TTV。

附图说明

图1是花篮的正视图。

图2是花篮的俯视图。

图3是支架的俯视图。

图4是支架的正视图。

图5是支架的挂钩部分。

具体实施方式

如图2所示,4为用于支撑在硅片下方的支撑片,它位于正四边形的四个边的中点位置,硅片和花篮采用点接触的方式,减少了硅片和花篮接触的面积,可以让硅片腐蚀后减少硅片产生腐蚀印的几率。

如图1所示,花篮主体中的两个对边分别分别由四根立方形条1、三个方块3连结而成,2为立方形条,支撑硅片的其中两个支撑片位于里而下方的那根立方形柱子的中点;花篮主体的另外两个对边分别由两根立方形柱子用一个方块连结而成,支撑硅片的另外两个支撑片位于下边的那根立方形条的中点。这种设计增加了花篮内外的连通性,保证腐蚀过程中花篮内外的物质交流,从而保证腐蚀过程中硅片周围的浓度均匀性。

本实用新型还包括连接花篮主体和机械手的支架,如图3,图4和图5所示。支架用来防止腐蚀过程中硅片飘出花篮的阻挡杆(图4中的标注6和标注7的部分),阻挡杆需尽可能的细,以减少接触面积。四个支撑片的长度可均为5mm,面积25mm2。位于花篮上方的支架上固定有四个阻挡杆,竖直地伸向花篮主体,并分别靠近花篮主体的四条边。阻挡杆的伸出的长度可为50mm.

所述的支架上所固定的四个阻挡杆中的相对的两个阻挡杆旁边分别固定有用于钩住花蓝主体方块的挂钩8。其形状如图5所示。

该设计结构简单,节约材料,同时制作工艺简单,因而大大降低了成本。

所用的材料是:用符合洁净要求的并且不会带来颗粒的材料制作而成,例如PP材料、四氟材料等。

使用步骤是:先将支架用螺丝固定在机械手上,取一片硅片平放在花篮主体里,将支架的两个挂钩从位于侧面的立方形条和方块的空档部位5(见图2)插入并钩住花篮主体的方块,即可开始腐蚀工艺。

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