[实用新型]材料层的制造系统及偏光片的制造系统

权利要求书

1.一种材料层的制造系统，其特征在于，包括：

延伸设备，包括：

多个第一喷雾装置，设置于所述延伸设备中，当所述材料层在所述延伸设备中输送时，所述多个第一喷雾装置用以喷出处理液至所述材料层的上表面上及相对于所述上表面的下表面上；以及

多个延伸装置，设置于所述延伸设备中，用以依照延伸倍率对所述材料层执行延伸操作。

2.根据权利要求1所述的制造系统，进一步包括：

洁净设备，所述材料层在被施以所述延伸操作后输送至所述洁净设备中，所述洁净设备包括：

多个第二喷雾装置，用以喷出清洁液至所述材料层的所述上表面和/或所述下表面上以进行清洗。

3.根据权利要求1所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置的喷角的范围介于12～115度。

4.根据权利要求1所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置的喷量的范围介于0.1～47升/分。

5.根据权利要求1所述的制造系统，其中，所述第一喷雾装置的安排为每米设置1～10个喷雾装置。

6.根据权利要求1所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置是扇形喷嘴、圆锥形喷嘴或直线形喷嘴。

7.根据权利要求1所述的制造系统，其中，所述延伸倍率的范围介于1.1～4.0倍。

8.根据权利要求1所述的制造系统，其中，所述延伸操作的持续时间介于10秒～10分。

9.根据权利要求1所述的制造系统，进一步包括：

恒温装置，设置于所述延伸设备中并用以使所述延伸操作保持在预定温度范围下进行。

10.根据权利要求1所述的制造系统，其中，在所述延伸设备中残留的处理液由所述延伸设备的底部承接后导引至回收槽。

11.根据权利要求10所述的制造系统，其中，所述延伸设备的所述底部设置有连向所述回收槽的斜道。

12.根据权利要求10所述的制造系统，其中，所述处理液从所述回收槽再度导引至所述多个第一喷雾装置。

13.根据权利要求1所述的制造系统，其中，所述材料层是偏光片的偏光基体层。

14.一种偏光片的制造系统，用以制备所述偏光片的偏光基体层，其特征在于，所述制造系统包括：

延伸设备，包括：

多个第一喷雾装置，设置于所述延伸设备中，当所述偏光基体层在所述延伸设备中输送时，所述多个第一喷雾装置用以喷出处理液至所述偏光基体层的上表面上及相对于所述上表面的下表面上；以及

多个延伸装置，设置于所述延伸设备中，用以依照延伸倍率对所述偏光基体层执行延伸操作。

15.根据权利要求14所述的制造系统，进一步包括：

洁净设备，所述偏光基体层在被施以所述延伸操作后输送至所述洁净设备中，所述洁净设备包括：

多个第二喷雾装置，用以喷出清洁液至所述偏光基体层的所述上表面和/或所述下表面上以进行清洗。

16.根据权利要求14所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置的喷角的范围介于12～115度。

17.根据权利要求14所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置的喷量的范围介于0.1～47升/分。

18.根据权利要求14所述的制造系统，其中，所述第一喷雾装置的安排为每米设置1～10个喷雾装置。

19.根据权利要求14所述的制造系统，其中，每一个第一喷雾装置是扇形喷嘴、圆锥形喷嘴或直线形喷嘴。

20.根据权利要求14所述的制造系统，其中，所述延伸倍率的范围介于1.1～4.0倍。

21.根据权利要求14所述的制造系统，其中，所述延伸操作的持续时间介于10秒～10分。

22.根据权利要求14所述的制造系统，进一步包括：

恒温装置，设置于所述延伸设备中并用以使所述延伸操作保持在预定温度范围下进行。