[实用新型]用于溅镀设备更换靶材的辅助装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于溅镀设备更换靶材的辅助装置。

背景技术

溅镀法为物理气相沉积法一种，于金属材料及非金属材料均可广泛应用，自1860年开始，溅镀沉积技术即已被广泛的应用，特别于半导体领域上；其原理是在真空中利用具有动能的粒子撞击靶材，将靶材表面的物质打出，以附着在欲镀物品上形成薄膜；通常溅镀沉积技术是将靶材(Target)装载于阴极(Cathode)上，而将待镀物装载于阳极(Anode)上，由于溅镀能击出靶材原子变成气相并析镀于欲镀物品上，几乎任何材料均可析镀上，且溅镀沉积技术具有无污染的特征，故得以广泛应用；溅镀沉积而成的薄膜优劣包含整个沉积过程中的工作压力、电流、电压于离子轰击率的高低，通常越高的轰击率所代表的靶材使用率也越低。

更换靶材是为溅镀沉积技术必然的作业程序，现有溅镀设备在更换靶材时，均是由作业人员以手动方式将锁固于溅镀靶源上的连接元件松脱后，配合阴极本体的尺寸及重量，由一个及多个作业人员及人力搬运的方式提握置设于阴极本体上的提把，将阴极本体搬离溅镀设备的真空腔体外进行翻转，使靶材翻转至阴极本体上方进行更换；随着溅镀沉积技术应用范围更加广泛，其阴极本体尺寸也随之增大，故增加了更换靶材时的困难度，必须通过多人合力合作，谨慎将复数组阴极本体进行搬运，避免碰撞损伤溅镀靶源，方能顺利进行靶材的更换，利用现有人力搬运技术更换靶材着实增加靶材更换的困难度，不但浪费时间，而且耗费作业人力，实于不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于溅镀设备更换靶材的辅助装置，以克服现有技术利用人力搬运溅镀靶源以进行靶材更换的缺点。

实现本实用新型的目的技术方案如下：

一种用于溅镀设备更换靶材的辅助装置，包括溅镀靶源，该溅镀靶源主要包括一叠置的阴极本体及靶材，阴极本体及靶材叠置成板状且该阴极本体叠置于靶材之上；所述辅助装置还包括一旋转机构，该旋转机构设于溅镀靶源的侧边中段位置，该旋转机构设一驱动机构，该驱动机构连接一轴杆，该旋转机构通过轴杆与阴极本体连接，该旋转机构可驱动溅镀靶源旋转其角度至更换靶材过当位置，旋转机构下方设一基架，基架承载该旋转机构，该基架连接一挂具，该挂具利用连接元件活动埋设结合于阴极本体；一伸缩机构，该伸缩机构与基架通过连接元件连接，该伸缩机构主要包括一压缸，压缸通过连通管连通一压棒，该压缸是气压缸或油压缸，压棒是气压棒或油压棒，该伸缩机构制动基架以及旋转机构伸缩以间接连动溅镀靶源形成升降；一辅助伸缩机构，该辅助伸缩机构设于溅镀靶源的一侧边并对应该旋转机构的位置，该辅助伸缩机构主要包括一压缸，压缸通过连通管连通一压棒，该压缸是气压缸或油压缸，压棒是气压棒或油压棒，辅助伸缩机构与伸缩机构对溅镀靶源二侧形成伸缩的平衡，其中该辅助伸缩机构通过一基架形成支持，该基架顶部设一连接元件，且该基架设一连接杆串联连接元件与一挂具，该挂具活动结合于阴极本体，使阴极本体与挂具活动拆装以辅助伸缩机构制动基架伸缩，且连动溅镀靶源形成升降。

本实用新型的有益效果为：不需受限于以人力搬运溅镀靶源的考虑，实用范围极为广泛，且该辅助装置的组成构件皆为轻巧及具机动性，维修、更换组件时可就部分组件进行更换，组装方便、维修容易，对于提高产业的生产效能及增加产业竞争力具有很大帮助；本实用新型可大幅提升自动化的生产效能，同时于生产制程中有效降低因失误而造成溅镀靶源的碰撞、损伤，增加靶材更换的便易性，可以提供节省人力搬运溅镀靶源，可将靶材更换角度至更换靶材的适当位置；通过伸缩机构制动基架以及旋转机构伸缩，从而间接连动溅镀靶源形成升降，而令靶材随溅镀靶源伸缩而可提供一符合人因工学的施工高度；实施时设一对称的辅助伸缩机构以辅助伸缩机构与伸缩机构对溅镀靶源二侧形成伸缩的平衡。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

图1是本实用新型的用于溅镀设备更换靶材的辅助装置的立体图；

图2是本实用新型的用于溅镀设备更换靶材的辅助装置的局部分解图；

图3是本实用新型的用于溅镀设备更换靶材的辅助装置工作状态图之一；

图4是本实用新型的用于溅镀设备更换靶材的辅助装置工作状态图之一。

图中：1、溅镀靶源；11、阴极本体；12、靶材；2、旋转机构；21、驱动机构；211、轴杆；22、基架；221、挂具；222、连接元件；3、伸缩机构；31、压缸；32、压棒；33、连通管；34、连接元件；4、辅助伸缩机构；41、基架；42、连接元件；43、挂具；44、连接杆；45、压缸；46、压棒。

具体实施方式、