[实用新型]溅镀机真空腔保护装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种溅镀机，更具体地说涉及一种用于光盘的溅镀机真空腔保护装置。

背景技术

光盘生产中常用的镀膜方法主要有：蒸镀和溅镀。二十世纪的前50年，世界各国科技人员经过大量的试验研究基本建立了溅射理论。在二十世纪的后50年里，薄膜技术获得了腾飞，这主要得益于真空技术在镀膜方面的应用，使真空镀膜实现了产业化。由于有了理论基础和成熟的工艺，各种镀膜设备也不断推陈出新。其中Leybold公司较早的开发出各种镀膜设备，也包括用于光盘生产的真空溅镀机。之后，广泛用于光盘的溅镀机还有德国Balzers和Singulus公司的溅镀机。

蒸镀是在真空中将金属加热蒸发产生金属蒸气，使其附着在基板上凝聚成薄膜。蒸镀的基板材质没有限制，从纸、金属到陶磁都能使用。蒸镀有加热式蒸镀，还有电子枪加热式及离子辅助式蒸镀。蒸镀是光盘母盘制作中常用的方式之一。

溅镀是通过离子碰撞而获得薄膜的一种工艺，主要分为两类：阴极溅镀和射频溅镀。阴极溅镀一般用于溅镀导体如铝、银或半导体。射频溅镀一般用于溅镀非导体如。溅镀主要利用辉光放电将氩气离子撞击靶材表面；靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。同时用强力磁铁将电子呈螺旋状运动，加速靶材周围的氩气离子化，使得氩气离子对阴极靶材的撞击机率增加，形成雪崩式的状态，以此提高溅镀速率。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好。

为了确保溅镀质量，实行阴极溅镀时对环境有较高的要求。首先要在真空环境条件下，高真空可以减少氧化物的产生；使用惰性工艺气体，通常为氩气，作为离子介质撞击靶材；形成电场——靶材为阴极，盘片为阳极；在真空腔内，用强力磁铁产生磁场；由于溅镀时产生高热，须用冷却水对阴极进行及时冷却。

光盘的溅镀过程：先将真空腔抽真空达到设定值，将盘片放入腔内，真空腔内盘片会被抽真空至高真空范围。注入氩气到真空腔，这时真空腔的真空度降低，此时对靶材(阴极)和盘片(阳极)之间施以几百伏特的直流电压，使氩气在电场中被离子化，产生氩离子及自由电子、在电场的作用下，带正电荷的氩离子向阴极(靶材)加速，而自由电子向阳极加速，被加速的氩离子和自由电子撞向其他氩原子，因动能转移使更多的氩原子被离子化，最后产生雪崩现象，等离子体持续自行放电。大量氩离子撞击靶材表面，氩离子的动能转移至靶材原子，一部份转化成靶材原子的动能，当靶材原子获得足够动能，它们会脱离靶材表面并自由地在溅镀腔内移动，最后覆盖于盘片及腔内其他表面。而氩离子撞击靶材的另一部份动能转化为热，因此靶材必须用冷却水冷却。为使盘片溅镀层的厚度均匀，靶材周围的磁场分布会提高等离子体的一致性。

如图1所示，现有的溅镀机，其真空腔的充气抽气机构，包括真空腔1、电磁阀5、高速分子泵2、油式真空泵3，所述真空腔1的入口连接电磁阀5，真空腔1的出口连接高速分子泵2入口，高速分子泵2的出口连接油式真空泵3入口。

当电磁阀5打开，对真空腔1充气的时候，一开始真空腔1的真空度非常高，油式真空泵3在这个时候处于停止的状态，因此在真空腔1的负压作用下，有时会把油式真空泵3的真空油吸入高速分子泵2，导致高速分子泵2无法正常工作，而真空腔也无法工作。

发明内容

本实用新型的目的是对现有技术进行改进，提供一种溅镀机真空腔保护装置，可以避免油式真空泵内的真空油进入高速分子泵内，有效的保护高速分子泵及真空腔，采用的技术方案如下：

本实用新型的溅镀机真空腔保护装置，包括真空腔、电磁阀、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于：还包括油分离器，所述真空腔的入口连接电磁阀，真空腔的出口连接高速分子泵入口，高速分子泵的出口连接油分离器入口，油分离器的出口连接油式真空泵入口。在对真空腔充气的时候，一开始真空腔的真空度非常高，因此在真空腔的负压作用下，会导致油式真空泵的真空油从油式真空泵往高速分子泵方向运动，在高速分子泵、油式真空泵之间增加了油分离器后，上述油式真空泵往高速分子泵方向运动的真空油会被油分离器分离出来，留在油分离器内，而不会进入高速分子泵内。

本实用新型对照现有技术的有益效果是，由于增加了油分离器，因此油式真空泵往高速分子泵方向运动的真空油会被油分离器分离出来，留在油分离器内，而不会进入高速分子泵内，能够有效地保护高速分子泵及真空腔，实际使用效果好、结构简单、易于实现。

附图说明

图1是本实用新型现有技术的结构示意图；

图2是本实用新型优选实施例的结构示意图。

具体实施方式