[实用新型]沉积室遮挡装置及相应的沉积室壁有效

专利信息
申请号: 200820152786.9 申请日: 2008-09-05
公开(公告)号: CN201250282Y 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 张林;顾琛 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 2012*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积 遮挡 装置 相应
【权利要求书】:

1.一种沉积室遮挡装置,其特征是,包括:

第一环状部与第二环状部,其中所述第一环状部的外径大于第二环状部的外径。

2.根据权利要求1所述的沉积室遮挡装置,其特征是,其中所述第一环状部的内径等于第二环状部的内径。

3.根据权利要求1所述的沉积室遮挡装置,其特征是,其中所述第一环状部与第二环状部为一体成型。

4.一种沉积室壁,其特征是,包括:

固定壁,包括:

第一环状部与第二环状部,且第一环状部的内径大于第二环状部的内径;

遮挡壁,包括:

第三环状部与第四环状部,且第三环状部的外径大于第四环状部的外径;

其中遮挡壁的第四环状部嵌入固定壁的第二环状部所确定的反应空间内。

5.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中,

所述第三环状部的外表面与第一环状部的内表面相贴合;且

所述第四环状部的外表面与第二环状部的内表面相贴合。

6.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中所述第一环状部与第二环状部的内径之差等于第三环状部与第四环状部的外径之差。

7.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中所述第三环状部的内径等于第四环状部的内径。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820152786.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top