[实用新型]沉积室遮挡装置及相应的沉积室壁有效
申请号: | 200820152786.9 | 申请日: | 2008-09-05 |
公开(公告)号: | CN201250282Y | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 张林;顾琛 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 遮挡 装置 相应 | ||
1.一种沉积室遮挡装置,其特征是,包括:
第一环状部与第二环状部,其中所述第一环状部的外径大于第二环状部的外径。
2.根据权利要求1所述的沉积室遮挡装置,其特征是,其中所述第一环状部的内径等于第二环状部的内径。
3.根据权利要求1所述的沉积室遮挡装置,其特征是,其中所述第一环状部与第二环状部为一体成型。
4.一种沉积室壁,其特征是,包括:
固定壁,包括:
第一环状部与第二环状部,且第一环状部的内径大于第二环状部的内径;
遮挡壁,包括:
第三环状部与第四环状部,且第三环状部的外径大于第四环状部的外径;
其中遮挡壁的第四环状部嵌入固定壁的第二环状部所确定的反应空间内。
5.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中,
所述第三环状部的外表面与第一环状部的内表面相贴合;且
所述第四环状部的外表面与第二环状部的内表面相贴合。
6.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中所述第一环状部与第二环状部的内径之差等于第三环状部与第四环状部的外径之差。
7.根据权利要求4所述的沉积室壁,其特征是,其中所述第三环状部的内径等于第四环状部的内径。
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