[实用新型]一种偏压式等离子源以及包含其的等离子处理机构无效
申请号: | 200820176675.1 | 申请日: | 2008-11-10 |
公开(公告)号: | CN201294215Y | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 林伟德;罗顺远;刘家齐;吕练勤;蔡振源;詹信义;陈照奕;吴祐安 | 申请(专利权)人: | 富临科技工程股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/32;H01L21/00;H05H1/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏压 离子源 以及 包含 等离子 处理 机构 | ||
1、一种偏压式等离子源,其特征在于包括:
一支撑体;
一电极盘,系配置于该支撑体上方;
一旋转连接器,系配置于该支撑体下方;以及
一导线,系将该旋转连接器以及该电极盘电性连接。
2、如权利要求1所述的偏压式等离子源,其特征在于,包括一绝缘体,配置于该电极盘与该支撑体之间。
3、如权利要求1所述的偏压式等离子源,其特征在于,该旋转连接器为一水银接头。
4、如权利要求1所述的偏压式等离子源,其特征在于,该旋转连接器内还具有一冷却室、一进气口、以及一排气口。
5、如权利要求1所述的偏压式等离子源,其特征在于,还包括一挡板,且该挡板配置于该电极盘下方,且挡板的电性为接地电位。
6、如权利要求1所述的偏压式等离子源,其特征在于,还包括一旋转驱动器,且该旋转驱动器配置于该电极盘下方。
7、如权利要求2所述的偏压式等离子源,其特征在于,该绝缘体的材质为陶瓷。
8、一种等离子处理机构,其特征在于包括:
一反应腔,包括一底板、一顶板、一周壁、以及一进料门,且该反应腔具有一进气口以及一排气口;以及
一偏压式等离子源,配置于该反应腔内,并包括:
一支撑体;
一电极盘,配置于该支撑体上方;一旋转连接器,配置于该支撑体下方;以及
一导线,将该旋转连接器以及该电极盘电性连接。
9、如权利要求8所述的等离子处理机构,其特征在于,该偏压式等离子源还包括一绝缘体,配置于该电极盘与该支撑体之间。
10、如权利要求8所述的等离子处理机构,其特征在于,该旋转连接器为一水银接头。
11、如权利要求8所述的等离子处理机构,其特征在于,该旋转连接器内还具有一冷却室、一进气口、以及一排气口。
12、如权利要求8所述的等离子处理机构,其特征在于,该偏压式等离子源还包括一挡板,且该挡板配置于该电极盘下方。
13、如权利要求8所述的等离子处理机构,其特征在于,该偏压式等离子源还包括一旋转驱动器,且该旋转驱动器配置于该电极盘下方。
14、如权利要求9所述的等离子处理机构,其特征在于,该绝缘体的材质为陶瓷。
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