[实用新型]多晶硅破碎台无效

专利信息
申请号: 200820182364.6 申请日: 2008-12-10
公开(公告)号: CN201373478Y 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 刘文;王荣跃 申请(专利权)人: 江苏中能硅业科技发展有限公司
主分类号: F24C15/20 分类号: F24C15/20;F24C7/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 范晓斌;王 刚
地址: 221004江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 多晶 破碎
【权利要求书】:

1.一种多晶硅破碎台,包括用于承载待破碎的多晶硅的破碎台表面,其特征在于,所述破碎台表面由高纯硅层的表面形成。

2.根据权利要求1所述的多晶硅破碎台,其特征在于,所述高纯硅层包括彼此紧密排列的多个高纯硅芯,所述多个高纯硅芯的对应多个上表面一起形成所述破碎台表面。

3.根据权利要求2所述的多晶硅破碎台,其特征在于,所述多个高纯硅芯的各个上表面处于同一平面内。

4.根据权利要求1或2所述的多晶硅破碎台,其特征在于,还包括围堰,所述围堰围绕所述高纯硅层设置。

5.根据权利要求4所述的多晶硅破碎台,其特征在于,所述围堰的高度超过所述破碎台表面。

6.根据权利要求5所述的多晶硅破碎台,其特征在于,所述围堰包括开口部,以便移除破碎后的多晶硅。

7.根据权利要求4所述的多晶硅破碎台,其特征在于,还包括支撑台,所述高纯硅层设置在所述支撑台上。

8.根据权利要求7所述的多晶硅破碎台,其特征在于,所述围堰与所述支撑台形成一体。

9.根据权利要求7所述的多晶硅破碎台,其特征在于,还包括支架,所述支撑台设置在所述支架上。

11.根据权利要求1或2所述的任一多晶硅破碎台,其特征在于:所述高纯硅层的纯度不小于99.99%。

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