[发明专利]制造离散轨道记录介质的方法和离散轨道记录介质无效

专利信息
申请号: 200880000660.2 申请日: 2008-06-20
公开(公告)号: CN101542609A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 镰田芳幸;白岛聪志;木村香里;樱井正敏 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G11B5/65
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;于 静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 离散 轨道 记录 介质 方法
【权利要求书】:

1.一种制造离散轨道记录介质的方法,包括:

在衬底上形成突起的磁性图形;以及

伴随着将所述衬底沿其平面旋转小于一周的角度而两次或更多次重复这样的工艺,即,沉积非磁性材料以填充在所述磁性图形之间的凹进中和回蚀所述非磁性材料。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述衬底每次旋转都沿其平面旋转15度到180度之间的角度。

3.如权利要求1所述的方法,其中在所述衬底沿其平面旋转期间,在旋转所述衬底的腔中引入Ar或N2,并将腔压力设定为0.3到10帕。

4.一种离散轨道记录介质,包括:

在衬底上形成的突起的磁性图形以及在所述磁性图形之间的凹进中填充的非磁性材料,

其中在所述衬底的周边边缘部分中形成六个或更多的指作为在沉积所述非磁性材料时所述衬底的夹持部分的标记。

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