[发明专利]层压体的制造方法及层压体无效

专利信息
申请号: 200880001358.9 申请日: 2008-06-19
公开(公告)号: CN101568429A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 梅本彻;龟山忠幸;河村和典 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B32B7/02 分类号: B32B7/02;B32B27/00;G02B5/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 层压 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种层压体的制造方法,其特征在于,

其为制造具备疏水性树脂基材和含有机染料的取向层的层 压体的方法,该方法包括如下工序:

工序(1),在氮气浓度80%以上的气氛下,将前述疏水性 树脂基材的表面进行低温等离子体处理;以及

工序(2),通过将包含显示溶致液晶性的有机染料和亲水 性溶剂的溶液涂布于前述疏水性树脂基材的低温等离子体处理 的表面上并干燥,在前述疏水性树脂基材上形成含前述有机染 料的取向层。

2.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,在前 述工序(1)中,前述等离子体处理前的、所述疏水性树脂基材 的表面的碳比率为70%~100%,

其中,所述碳比率通过X射线光电子能谱分析测定。

3.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,在前 述工序(1)中,前述等离子体处理前的、所述疏水性树脂基材 的表面的水的接触角为70°~130°。

4.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,前述 亲水性溶剂包含水。

5.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,在前 述工序(1)中,等离子体处理的气氛的氧气浓度为15%以下。

6.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,前述 有机染料在分子结构中具有亲水性取代基。

7.根据权利要求6所述的层压体的制造方法,其中,前述 亲水性取代基是选自-COOM、-SO3M、-PO3M、-OH和-NH2所 组成的组中的至少一种;其中,M表示抗衡离子。

8.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,前述 疏水性树脂基材是以降冰片烯系树脂为主成分的薄膜。

9.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,在前 述工序(2)中,在涂布前述溶液前的、所述疏水性树脂基材的 等离子体处理的表面的水的接触角为10°~60°。

10.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,在前 述工序(2)中,在涂布前述溶液前的、所述疏水性树脂基材的 等离子体处理的表面的氮比率为3%~25%,

其中,所述氮比率通过X射线光电子能谱分析测定。

11.根据权利要求1所述的层压体的制造方法,其中,前述 取向层的厚度为0.1μm~2μm。

12.一种层压体,其特征在于,所述层压体具备疏水性树 脂基材和含有溶解在亲水性溶剂中而且显示溶致液晶性的有机 染料的取向层,其中,

前述疏水性树脂基材的、层压有前述取向层的表面的氮比 率为3%~25%,

其中,所述氮比率通过X射线光电子能谱分析测定。

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