[发明专利]层压体的制造方法及层压体无效
申请号: | 200880001358.9 | 申请日: | 2008-06-19 |
公开(公告)号: | CN101568429A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 梅本彻;龟山忠幸;河村和典 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B7/02 | 分类号: | B32B7/02;B32B27/00;G02B5/30 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层压 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及制造在疏水性树脂基材的表面上层压有含有机 染料的取向层的层压体的方法以及该层压体。
背景技术
以往,已知有通过将含有显示溶致液晶性的有机染料和水 的溶液涂布在基材上并干燥,从而在基材上形成取向层的方法 (专利文献1)。
然而,在上述基材是以疏水性树脂为主成分的薄膜时,上 述溶液有可能在基材表面上被排斥。其结果,在所形成的取向 层上有时产生直径约数毫米左右的圆形孔。例如,在将前述取 向层组装到液晶显示装置中时,前述圆形孔成为装置显示特性 降低的原因。另外,该取向层与基材的粘合性差,因此有可能 产生层间剥离。
因此,正在寻求通过在以疏水性树脂为主成分的基材表面 上大致均匀涂布含有机染料的溶液来制造无缺陷的取向层。
专利文献1:日本专利申请公表2004-528603号公报
发明内容
本发明的目的在于,提供一种层压体的制造方法,其通过 在疏水性树脂基材的表面上涂布含有机染料的溶液而形成取向 层时,可以在该基材表面上大致均匀地涂布溶液,从而可以形 成良好的取向层。
另外,本发明的另一个目的在于,提供一种层压体,其中, 在疏水性树脂基材的表面上层压有含有机染料的取向层的层压 体中,取向层与疏水性树脂基材良好地粘合。
本发明的层压体的制造方法的特征在于,该层压体具备疏 水性树脂基材和含有机染料的取向层,该方法包括如下工序: 工序(1):在氮气浓度80%以上的气氛下,将前述疏水性树脂 基材的表面进行等离子体处理;以及工序(2),通过将包含显 示溶致液晶性的有机染料和亲水性溶剂的溶液涂布于前述疏水 性树脂基材的等离子体处理的表面上并干燥,在前述疏水性树 脂基材上形成含前述有机染料的取向层。
根据上述制造方法,在含有大量氮气的气氛下将含有机染 料和亲水性溶剂的溶液涂布于等离子体处理的疏水性树脂基材 表面上时,可以防止前述溶液从基材表面上被排斥。结果,可 以将前述溶液大致均匀地涂布于基材表面上。通过干燥该涂布 的溶液,在面内难以产生圆形孔等,而且可以在基材上形成大 致均匀厚度的取向层。
据推测能够形成这种良好的取向层的原因如下所述。
通过在含有大量氮气的气氛下等离子体处理上述疏水性树 脂基材的表面,可以在疏水性树脂基材的表面导入许多诸如 C-O基团之类的含氧基团以及诸如C-N基团之类的含氮基团。据 推测,这种基团与显示溶致液晶性的有机染料形成强的氢键, 因此可以形成良好的取向层。
本发明的一种优选制造方法,在上述工序(1)中,上述等 离子体处理前的、所述疏水性树脂基材的表面的碳比率为 70%~100%。其中,前述碳比率是通过X射线光电子能谱分析 测定的值。
本发明的另一种优选制造方法,在上述工序(1)中,前述 等离子体处理前的、所述疏水性树脂基材的表面的水的接触角 为70°~130°。
本发明的另一优选制造方法,上述亲水性溶剂包含水。
本发明的另一优选制造方法,在上述工序(1)中,等离子 体处理的气氛的氧气浓度为15%以下。
本发明的另一优选制造方法,上述有机染料在分子结构中 具有亲水性取代基。
本发明的另一优选制造方法,上述亲水性取代基是选自 -COOM、-SO3M、-PO3M(其中,M表示抗衡离子)、-OH和-NH2所组成的组中的至少一种。
本发明的另一优选制造方法,上述疏水性树脂基材是以降 冰片烯系树脂为主成分的薄膜。
本发明的另一优选制造方法,在上述工序(2)中,在涂布 上述溶液前的、所述疏水性树脂基材的等离子体处理的表面的 水的接触角为10°~60°。
本发明的另一优选制造方法,在上述工序(2)中,在涂布 上述溶液前的、所述疏水性树脂基材的等离子体处理表面的氮 比率为3~25%。其中,前述氮比率是通过X射线光电子能谱分 析测定的值。
本发明的另一优选制造方法,上述取向层的厚度为 0.1μm~2μm。
另外,根据本发明的其它方面,提供一种层压体。
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