[发明专利]制备紫杉烷衍生物的半合成方法

权利要求书

1.紫杉烷中间体的生产方法，所述方法包括如下步骤：

保护通式(I)紫杉烷C-7位上的游离羟基：

其中，Z是-OH或被保护的-OH；G₁和G₂相同或不同并且独立地是羟 基保护基团，以及

向所述通式(I)紫杉烷的C-13位上的游离羟基连接侧链从而产生C-13 被保护的紫杉烷中间体，所述方法的特征在于所述保护和连接步骤包 括将所述通式(I)紫杉烷与碱、合适的羟基保护剂以及所述侧链的前体 结合，其中所述侧链的所述前体是2’-位被合适的羟基保护剂保护的开 链苯基异丝氨酸的单一异构体，并且其中所述通式(I)紫杉烷和所述侧 链的所述前体是通过缩合反应连接的，所述缩合反应在甲苯和四氢呋 喃混合物；DPC或DCC以及催化量的DMAP的存在下于40℃至70℃ 进行，使得所得到的C-13被保护的紫杉烷中间体在C-7位和所述苯基 异丝氨酸侧链上的所述2’-位上均有合适的羟基保护剂， 所述羟基保护剂是指结合在羟基(-OH)基团的氧上的容易裂解的基团。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述开链苯基异丝氨酸的所述 单一异构体是光学活性的。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述通式(I)紫杉烷来源于 选自10-脱乙酰基浆果赤霉素III和9-二氢-13-乙酰基浆果赤霉素III 中的至少一种紫杉烷。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述通式(I)紫杉烷是浆果赤霉 素III。

5.如权利要求1或2所述的方法，其进一步包括在向所述通式(I) 紫杉烷连接所述侧链的所述前体的所述步骤之前，向所述侧链的所述 前体的所述2’位添加羟基保护剂的步骤。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中用于保护所述C-7位和所 述侧链的所述前体的所述2’位的所述羟基保护剂相同或不同并选自烷 基化试剂和酰化试剂。

7.如权利要求1所述的方法，其中用于保护所述C-7位和所述侧 链的所述前体的所述2’位的所述羟基保护剂相同或不同并选自乙酰基 (Ac)、苄基(PhCH2)、1-乙氧基乙基(EE)、甲氧基甲基(MOM)、(甲氧基 乙氧基)甲基(MEM)、(对甲氧基苯基)甲氧基甲基(MPM)、叔丁基二甲 基硅烷基(TBS)、叔丁基二苯基硅烷基(TBPS)、叔丁氧基羰基(tBoc、 t-Boc、tBOC、t-BOC)、四氢吡喃基(THP)、三苯基甲基(Trityl、Tr)、 2-甲氧基-2-甲基丙基、苄氧基羰基(Cbz)、三氯乙酰基(OCCCl₃)、2，2，2- 三氯乙氧基羰基(Troc)、苄氧基甲基(BOM)、叔丁基(t-Bu)、三乙基硅 烷基(TES)、三甲基硅烷基(TMS)以及三异丙基硅烷基(TIPS)。

8.如权利要求7所述的方法，其中所述羟基保护剂是tBOC。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中所述通式(I)紫杉烷是紫杉 烷类混合物的一部分，所述紫杉烷类混合物除了所述通式(I)紫杉烷， 还包含太平洋紫杉醇、9-二氢-13-乙酰基浆果赤霉素III、三尖杉宁碱、 10-脱乙酰基紫杉醇、7-木糖基紫杉醇和10-脱乙酰基-7-木糖基紫杉醇。