[发明专利]成像设备、成像设备的制造方法及便携终端设备无效

专利信息
申请号: 200880001953.2 申请日: 2008-01-09
公开(公告)号: CN101578854A 公开(公告)日: 2009-11-11
发明(设计)人: 山田清彦;今井诚;西泽宏 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;G02B7/02;H01L27/14;H04N5/335
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 葛 飞
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成像 设备 制造 方法 便携 终端设备
【说明书】:

技术领域

本发明涉及图像拾取设备、其制造方法以及移动终端,且具体地涉及采用半导体图像拾取设备的小型图像拾取设备以及采用该图像拾取设备的移动电话。

背景技术

图像拾取设备是通过将半导体图像拾取装置芯片安装在安装基板上并将透镜附着于其上来实施。半导体图像拾取装置和透镜之间的导光空间在安装上极为重要,如果灰尘沉积或疵点发生于该导光空间内,则出现图像质量的劣化,并因此提出各种对策。

例如,提出了一种图像拾取设备,其中在一端面上具有粘着性(adhesion)的间隔物构件置于用于固定半导体图像拾取装置的空间内,且灰尘附着到该间隔物的露出端面,由此防止灰尘沉积在半导体图像拾取装置上从而不影响图像质量(专利文献1)。

还提出了一种方法,其中能够保持灰尘的保持装置提供在半导体图像拾取装置和透镜之间的导光空间内,且灰尘保持在该保持装置上,由此防止灰尘沉积在透镜、图像拾取装置的受光面、光学过滤器等上,从而防止图像质量劣化(专利文献2)。

此外,如果接合剂的填充物置于半导体图像拾取装置上,疵点发生,且通过依据疵点尺寸由周围像素来补充,可以对该疵点进行校正,如专利文献3所披露(专利文献3)。

专利文献1:JP-2005-217546A(第4页,图6)

专利文献2:JP-2005-316127A(第6页,图2)

专利文献3:JP-2004-327914A(第6页,图6)

发明内容

本发明解决的问题

按照这种方式,在专利文献1描述的图像拾取设备中,假定在由半导体图像拾取装置和光学构件分隔的空间中,间隔物由于捕获灰尘是有效的,不过已知在空间中的灰尘具有与像素尺寸差不多的尺寸,并影响图像拾取装置的输出,且由此降低像素输出并产生疵点。因此,可见在足够洁净的环境中组装设备比捕获灰尘更为有效,因为待捕获的灰尘尺寸非常小,只有几μm。因为热冲击、振动、冲击等的应力引起具有粘合性能的粘合剂脱落,存在发生图像质量劣化的可能性。此外,由于粘合剂区域形成在间隔物的平面中,担心灰尘从没有设置间隔物的区域进入。间隔物的夹置导致部件数量的增加,容易导致发生光学距离的变化,且不能避免光学特性的波动。

在专利文献2描述的图像拾取设备中,能够保持灰尘的保持装置设置在半导体图像拾取装置和透镜之间的导光空间内,以将灰尘保持在保持装置上。然而,劣化图像质量的灰尘尺寸非常小,与半导体图像拾取装置表面的像素尺寸差不多,不过随着距离半导体图像拾取装置越远,该尺寸在光学过滤器或者透镜上越大。这意味着待保持的灰尘尺寸变化主要取决于与半导体图像拾取装置的距离。由于待保持的灰尘的尺寸范围宽,稳定地捕获并保持宽的尺寸范围的灰尘是必要的。因此,能够改变保持在保持装置上的灰尘的尺寸,或者能够保持灰尘的足够宽的尺寸范围是重要的,以及材料选择和设计选择的灵活性降低;这是个问题。

尽管通过校正除去疵点的方法在专利文献3中也被提出,一旦沉积材料内部移动并试图提供长期的稳定特性,期望尽可能地将灰尘从有效区域除去。

本发明旨在解决上述问题,以及本发明的目的是提供优质的小型图像拾取设备以及采用该图像拾取设备的移动终端,该优质的小型图像拾取设备能够降低由灰尘的沉积或移动引起的图像质量劣化,并能够增强设计的灵活性。

解决问题的手段

为了达到这个目的,本发明的图像拾取设备特征在于:半导体图像拾取装置安装在基板上,且透光构件和透镜使用光学空间的间隔布置在半导体图像拾取装置的图像拾取区域内;该粘合区域至少形成在包围该光学有效区域的一部分区域内,在该光学有效区域中可在被该光学空间内的该半导体图像拾取装置、该透光构件和该基板包围的空间之外的图像拾取区域内拾取图像。

根据这种配置,待捕获的灰尘在光学有效范围之外被捕获,且由此捕获的灰尘不会光学地影响图像质量。与存在半导体图像拾取装置的受光面的空间相比,被捕获的灰尘尺寸大,并且小的灰尘不会影响图像质量即使它不能被捕获;由于粘合剂无需捕获微小的灰尘,可以提供粘合剂选择的宽广范围。另外,由振动或冲击引起的粘合剂本身的脱落也是可能的,不过如果灰尘不是较大的灰尘,图像质量不会受影响,且因此可靠性增加。此外,可以形成粘合剂而不用附着例如间隔物的其它构件,使得不会引起光学特性变化的发生。此处提到的光学空间指的是可以形成光路的区域。

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