[发明专利]发光装置和使用该发光装置的照明设备无效
申请号: | 200880002059.7 | 申请日: | 2008-01-11 |
公开(公告)号: | CN101578479A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 金山喜彦;田村哲志;植田贤治 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | F21S8/10 | 分类号: | F21S8/10;F21Y101/02;H01L33/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 邬少俊;王 英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 使用 照明设备 | ||
1、一种发光装置,包括:
基底;
包括设置于所述基底的一个主表面上的发光部分的光源部分;以及
设置成围绕所述光源部分的光分布控制反射器,
其中,所述光分布控制反射器是大致回转抛物面的至少一部分,并且构成所述光分布控制反射器内表面的大致回转抛物面是用于采集从所述光源部分发射的光的光反射表面,
所述光源部分的光输出部分设置于所述大致回转抛物面表面的基本焦点的位置,并且
所述光源部分的光轴相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。
2、根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述发光部分包括发光元件。
3、根据权利要求2所述的发光装置,其中,所述发光部分还包括覆盖所述发光元件的半透明材料。
4、根据权利要求2所述的发光装置,其中,所述发光部分还包括覆盖所述发光元件的荧光体部分。
5、根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述基底的所述一个主表面的法线相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。
6、根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述发光部分的光轴相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。
7、根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述发光部分还包括光程改变部分,且所述发光部分的光轴相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向,朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。
8、根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述光源部分还包括光程改变部分。
9、根据权利要求1到8中任一项所述的发光装置,其中,所述光分布控制反射器是所述大致回转抛物面。
10、根据权利要求1到9中任一项所述的发光装置,还包括光程改变部分,所述光程改变部分改变从所述光分布控制反射器的开口发射的光的光程。
11、一种照明设备,所述照明设备包括根据权利要求1到10中任一项所述的发光装置。
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