[发明专利]发光装置和使用该发光装置的照明设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种包括发光元件的发光装置和使用该发光装置的照明设备。

背景技术

诸如发光二极管(在下文中称为“LED”)的发光元件被用于各种发光装置中。与使用放电和辐射的现有光源相比，LED不仅具有较小的尺寸和更高的效率，而且近来还发展为提供更大的光通量，从而可以取代现有光源。

此外，在与具有反射功能和透镜功能的光学系统结合时，LED能够控制发射光的辐射模式。例如，JP 2005-32661A提出了一种发光装置，这种发光装置利用由回转抛物面的部分形状构成的光采集反射器能够将从发光元件发射的光提取为平行光。

图20示出了JP 2005-32661A中提出的发光装置的示意性透视图。发光装置100包括基板101、安装于基板101上的发光元件102和设置成围绕发光元件102的光采集反射器103。光采集反射器103是回转抛物面的一部分，并且构成光采集反射器103的内表面的回转抛物面表面103a为光反射表面，用于采集从发光元件102发射的光。发光元件102设置于回转抛物面表面103a的焦点位置。根据这种配置，从发光元件102发射的光被回转抛物面表面103a反射，变成平行光，并从光采集反射器103的开口发射出去。

不过，在上述发光装置100中，从发光元件102位于光采集反射器103的开口侧的发光部分端部102a发射的一部分光未被回转抛物面表面103a反射，从而由发光元件102发射的一部分光不会变成平行光，从而可能妨碍对光分布的控制。

发明内容

为了解决常规技术的上述问题，本发明提供了一种可以有助于光分布控制的发光装置。

一种根据本发明的发光装置包括：基底；包括设置于所述基底的一个主表面上的发光部分的光源部分；以及设置成围绕所述光源部分的光分布控制反射器。在发光装置中，所述光分布控制反射器是大致回转抛物面的至少一部分，并且构成所述光分布控制反射器内表面的大致回转抛物面表面是用于采集从所述光源部分发射的光的光反射表面。此外，所述光源部分的光输出部分设置于所述大致回转抛物面表面的基本焦点的位置，并且所述光源部分的光轴相对于与所述大致回转抛物面的轴正交的方向，朝着所述大致回转抛物面的顶点倾斜。

此外，根据本发明的照明设备的特征在于使用了上述根据本发明的发光装置。

根据本发明的发光装置，相对于从发光部分发射的光，可以减小未被光分布控制反射器的内表面(大致回转抛物面表面)反射的光的部分的比例，由此提高被作为基本平行光而提取的光的比例。于是，可以有助于光分布控制。

附图说明

图1A是根据本发明第一实施例的发光装置的示意性透视图，图1B是图1A中所示的发光装置的示意性截面图。

图2是示出了根据本发明第一实施例的发光装置变型范例的示意性透视图。

图3A是根据本发明第二实施例的发光装置的示意性透视图，图3B是图3A中所示的发光装置的示意性截面图。

图4是根据本发明第三实施例的发光装置的示意性截面图。

图5A是根据本发明第四实施例的发光装置的示意性截面图，图5B是图5A中所示的发光装置的光源部分的放大示意性截面图。

图6A是根据本发明第五实施例的发光装置的示意性截面图，图6B是图6A中所示的发光装置的光源部分的放大示意性截面图。

图7A是根据本发明第六实施例的发光装置的示意性截面图，图7B是图7A中所示的发光装置的光源部分的放大示意性截面图。

图8A是根据本发明第七实施例的发光装置的示意性截面图，图8B是图8A中所示的发光装置的光源部分的放大示意性截面图。

图9是根据本发明第八实施例的发光装置的示意性截面图。

图10是根据本发明第九实施例的发光装置的示意性截面图。

图11是根据本发明第十实施例的发光装置的示意性截面图。

图12是根据本发明第十一实施例的发光装置的示意性截面图。

图13是根据本发明第十二实施例的发光装置的示意性截面图。

图14是根据本发明第十三实施例的发光装置的示意性截面图。

图15是根据本发明第十四实施例的发光装置的示意性截面图。

图16是根据本发明第十五实施例的发光装置的示意性透视图。

图17是利用根据本发明的发光装置的照明设备的示意性透视图。

图18是用于解释测量发光装置辐射角的方法的示意图。

图19是示出了发光装置辐射角测量结果的曲线图。

图20是常规发光装置的示意性透视图。