[发明专利]低级烃的芳构化催化剂及芳族化合物的制备方法有效
申请号: | 200880004955.7 | 申请日: | 2008-02-13 |
公开(公告)号: | CN101652177A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 山田真一;山田知弘;小川裕治;秋山广一;畑岸琢弥 | 申请(专利权)人: | 株式会社明电舍 |
主分类号: | B01J29/48 | 分类号: | B01J29/48;C10G35/095;C01B3/40 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈 昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低级 芳构化 催化剂 化合物 制备 方法 | ||
1.用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂,包括:
作为载体的沸石,在其上负载钼和铜后再经焙烧,所述沸石为ZSM-5 或MCM-22,
其中,将所述催化剂与低级烃和碳酸气反应,生成芳族化合物,
按铜对钼的摩尔比为0.1~0.8来将钼和铜负载于沸石上,
以焙烧后的催化剂总量为基准,钼的负载量在2~12wt%的范围。
2.权利要求1所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂,其 中,将钼和铜负载在经硅烷化合物处理过的沸石上,该硅烷化合物的分 子直径大于沸石的孔径、并具有氨基和直链烃基,所述氨基能够选择性 地与所述沸石上的布朗斯台德酸点反应。
3.权利要求1或2所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂, 其中,将钼和铜负载在所述沸石上之后,在焙烧时,所施加的焙烧温度 在550~800℃的范围。
4.权利要求2所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂,其 中,硅烷化合物包括3-氨基丙基-三乙氧基硅烷。
5.权利要求4所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂,其 中,用硅烷化合物的改性处理按如下方式进行:以焙烧后的催化剂总量 为基准,3-氨基丙基-三乙氧基硅烷的加入量少于2.5wt%。
6.权利要求5所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂,其 中,用硅烷化合物的改性处理按如下方式进行:以焙烧后的催化剂总量 为基准,3-氨基丙基-三乙氧基硅烷的加入量为0.5wt%。
7.权利要求1或2所述的用于从低级烃制备芳族化合物的催化剂, 其中,按铜对钼的摩尔比为0.1~0.3来将钼和铜负载于沸石上。
8.芳族化合物的制备方法,包括以下步骤:
按铜对钼的摩尔比为0.1~0.8来将钼和铜负载在作为载体的沸石 上,所述沸石为ZSM-5或MCM-22,
在沸石上负载钼和铜后,将其焙烧;以及
将所述催化剂与含有低级烃和碳酸气的反应气体进行反应,以制备 芳族化合物,
其中,在进行负载钼和铜的步骤中,使得:以焙烧后的催化剂总量 为基准,钼的负载量在2~12wt%的范围。
9.权利要求8所述的芳族化合物的制备方法,其中,以所述反应 气体的总量为基准,碳酸气的加入量在0.5~6wt%的范围。
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