[发明专利]等离子处理装置无效
申请号: | 200880009956.0 | 申请日: | 2008-03-21 |
公开(公告)号: | CN101658076A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 竹内裕人;中森勇一;功刀俊介 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;H01L21/3065;H01L21/304 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及等离子处理装置。
背景技术
例如,在专利文献1中记载有上下相对配置一对电极的等离子处理装置。上侧的电极连接有电源而成为电场施加电极。下侧的电极电接地,成为接地电极。在这些电极之间施加电场并产生大气压辉光放电,同时导入处理气体并等离子化。在下侧的接地电极形成有狭缝状的喷出口。从该喷出口将上述处理气体向下方吹出。在接地电极的下方配置有被处理物。向该被处理物吹出来自上述喷出口的处理气体,进行表面处理。
在接地电极的上表面(与电场施加电极相对的相对面)形成有由氧化铝的喷镀膜构成的固体电介质层。
专利文献1:(日本)特开2004-006211号公报
在上述构造的等离子处理装置中,如果使由金属构成的接地电极的喷出口的内面露出,则有电弧落在此处的危险。特别是电场集中在喷出口的电场施加电极侧的端缘,在其端缘产生发光强度更强的放电,或电弧落在此处。这样,存在所谓金属杂质或微粒产生并附着于被处理物的问题。
发明内容
为了解决上述课题,本发明是如下的装置,即,在放电空间内使处理气体等离子化并喷出,使其与配置在所述放电空间的外部的被处理物配置部的被处理物接触,进行等离子表面处理,其特征在于,
具有:
电场施加电极(热电极),其与电源连接;
接地电极(地电极),其具有朝向所述电场施加电极的放电面和朝向所述被处理物配置部的处理面,并电接地;
接地侧的介电部件,其由与所述接地电极的放电面抵接并且面向所述电场施加电极而形成所述放电空间的固体电介质构成,
在所述介电部件形成有与所述放电空间连通的喷出导孔,
在所述接地电极形成有与所述喷出导孔相连且从所述放电面贯通到所述处理面的喷出口,
所述介电部件中的所述喷出导孔的内面比所述接地电极中的所述喷出口的内面的所述放电面侧的端缘向喷出口的径向内侧突出,
所述介电部件具有:抵接面,其与所述接地电极的放电面抵接;阶梯面,其从该抵接面齐面延长并形成所述喷出导孔的内面与所述喷出口的内面之间的阶梯。
由此,能够防止电弧等的异常放电落在接地电极中的喷出口的内面的放电面侧的端缘,能够阻止金属杂质及微粒的产生,并能够阻止这些金属杂质或微粒附着于被处理物。
所述喷出口的尺寸及形状可以在该喷出口的贯通方向(接地电极的厚度方向)恒定。由此,不仅能够容易形成喷出口,而且能够使电弧等的异常放电不仅不落在喷出口的内面的放电侧的端缘,也不落在内面的任意处。
所述喷出口的尺寸及形状可以在该喷出导孔的贯通方向(介电部件的厚度方向)恒定。由此,能够容易形成喷出导孔。
所述喷出口的所述处理面侧的端部的尺寸也可以比所述放电面侧的端部的尺寸小。由此,能够防止电弧等的异常放电落在接地电极的喷出口的内面的放电面侧的端缘,并且能够防止向喷出口内卷入外部气氛,还能够确保处理气体的喷出的强度,能够提高处理效率。
所述喷出口的尺寸也可以随着接近所述处理面而平滑地变小。由此,能够防止电场集中产生在喷出口的内面,并能够可靠地防止异常放电落下的情况。
所述喷出口的所述处理面侧的端部的尺寸及形状也可以与所述喷出导孔的尺寸及形状大致相同。由此,能够充分地防止卷入外部气氛,能够充分地确保处理气体的强度,并能够可靠地防止异常放电落在喷出口的内面。
优选还具有使所述介电部件相对于所述接地电极在与所述放电面平行的面内容许误差的同时限制所述介电部件的位置的位置限制机构。由此,能够使介电部件与接地部件相互独立地进行热膨胀,并能够通过两者的膨胀差防止介电部件破损。
优选使所述介电部件位于正常位置的状态下的所述阶梯面沿所述突出方向的宽度比所述误差的容许量大。由此,即使存在介电部件的定位误差也能够可靠地防止异常放电落下的情况。
还可以具有由与所述介电部件独立的绝缘体构成且以覆盖所述接地电极的喷出口的内面的方式设置的覆盖部件。由此,能够更可靠地防止异常放电落在喷出口的内面。
所述覆盖部件的厚度优选与所述阶梯面沿所述突出方向的宽度大致相同。由此,能够使电介质的喷出导孔的内面与覆盖部件的内壁齐面,能够可靠地防止覆盖部件的角部等的缺口,能够防止微粒的产生。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于积水化学工业株式会社,未经积水化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880009956.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种治疗消化性溃疡病的中草药混合物
- 下一篇:用于音频重构增强的方法和设备