[发明专利]改善链处理准确度的预测性脉冲触发的用法有效
申请号: | 200880012242.5 | 申请日: | 2008-03-13 |
公开(公告)号: | CN101682165A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 凯利·布鲁兰德;柯林特·凡德吉亚森 | 申请(专利权)人: | 伊雷克托科学工业股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/10 | 分类号: | H01S3/10 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许 静 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 改善 处理 准确度 预测 脉冲 触发 用法 | ||
技术领域
本发明关于用以处理目标样本的脉冲式激光技术。
著作权声明
年Electro Scientific Industries股份有限公司。本专利文件的部分揭示内容受到著作权保护。著作权拥有者不反对任何人复制专利商标事务所专利档案或记录中本专利文件或本专利揭示内容,不过,保留所有著作权的权利。
背景技术
集成电路(尤其是用在计算机内存数组中的集成电路)经常会被设计成重复的图案,其运用一被复制在一半导体芯片的庞大面积上的单元胞体(cell)。此种密集电路系统的制造良率有越来越低的倾向,因为微粒或其它缺陷和电性主动组件或互连电线重迭的可能性越来越高,从而使得它们无法运作。解决此问题的其中一种方式必须建立冗余胞体,这些冗余胞体可用来取代在进行电性测试期间所发现到的故障胞体。一激光射束藉由割断特定的电性连接线便能完成此取代步骤,同时可让其它胞体保持不变。
将一晶圆分割成多个个别芯片之前,在晶圆层级处来执行此错误修正处理最有效。于一典型的内存修补统中,整个晶圆在一激光光学组件的下方于一自动控制平台上被运送,该激光光学组件被程序化成用以在激光射束轴对齐所希的连接点或连结链时触发一激光脉冲。该激光射束轴在该晶圆上相对于该连结链的速度(亦称为链运转速度(1ink run velocity))以及激光射束触发系统的准确度则会界定此等链处理平台的质量和总处理量。
目前,激光修补系统能够在高达210mm/sec的链运转速度下,于分隔约2微米的装置上每秒处理100,000条连结链。目前适合用来进行内存修补的激光的脉冲重复频率(PRF)高达150kHz或是每秒150,000个脉冲。激光的发展持续提高脉冲重复频率并且预期会有具数百个kHz PRF的激光。Electro Scientific Industries股份有限公司(其为本专利申请案的受让人)提供一种型号为9850的双射束链处理系统,其能够在特殊的操作模式中倍增激光PRF。本领域希望在为激光PRF和链间距的乘积的速度处来处理链运转作业。当此速度超过该系统的最大能力时,链运转作业便必须在较慢的速度处来实施。因此,激光射束脉冲可以在远快于激光射束轴能够从一目标前进至下一个目标的速度的速率处被触发。此差别便提供大幅提高链运转速度的机会。
发明内容
本发明说明一种「预测性脉冲触发(PPT)」方法,其可在一链处理系统中触发一激光射束时来改善系统准确度。于一较佳的实施例中,该PPT方法在用于支撑一目标样本(诸如一被制作成具有多个导电链结构的半导体晶圆)的平台运动期间(举例来说,以高速恒定的速度来运动),在「行进中(on the fly)」促成激光脉冲触发。该PPT方法必须预估连结链位置和激光射束轴位置,并且依据此预估结果来触发该激光射束。用以提供该晶圆支撑平台的位置指示结果的度量源头包含干涉计、光学编码器、以及众多其它各式各样的传感器。
激光射束轴位置预测中可在连续的时间位移测量区间之间预测该射束轴相对于该支撑台的中间位置。中间位置的预测可运用到一卡尔曼滤波器。中间位置的预测可包括在小于这些时间位移测量区间的时间区间处使用选择该射束轴与该支撑台的相对移动速度来计算多个递增位置数值。在该射束轴与该支撑台之间并且对应于该选择速度的相对位置从对应于数个先前时间位移测量区间的多个相对位置处所推知。
依据测量和交换该晶圆支撑平台位置来触发产生一激光脉冲的本技术目前最新的系统的特征为误差大小大于以使用经预测参数为特征所产生的误差的十倍。使用经测量参数来触发一激光射束中的误差随着链运转速度而线性增加,也就是,当一激光射束轴的速度提高时,准确地测量其位置以及触发产生一激光射束来瞄准一所希连结链的能力便会下降。系统误差的程度还会相依于测量取样频率,因为取样率越高(也就是,每个单位时间有较多的测量值)便会越准确。相反地,使用PPT来触发一激光射束中的误差主要则相依于估计值的准确度。该些估计值可能以不同时间处的平台位置的多次测量值为主、以链运转速度为主、以及以其它数据为主。它们的准确度可能远大于个别的传感器测量值,而且它们可以在高于可用传感器的取样率处被产生。
从下面较佳实施例的详细说明,参考附图,将会明白本发明的额外观点与优点。
附图说明
图1所示为被导引至一目标样本表面的激光射束的示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊雷克托科学工业股份有限公司,未经伊雷克托科学工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880012242.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。