[发明专利]诸如挡墙的构造物的基础单元结构、挡墙的上下边界的结构和挡墙有效

专利信息
申请号: 200880013289.3 申请日: 2008-03-03
公开(公告)号: CN101668899A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 末松吉生;小松利光;安福规之 申请(专利权)人: 东荣商兴株式会社
主分类号: E02D29/02 分类号: E02D29/02;E02D17/18
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙 淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 诸如 挡墙 构造 基础 单元 结构 上下 边界
【权利要求书】:

1.一种在地基上固定安装的挡墙的基础单元结构,其中

所述地基中形成有凹陷单元,抗滑体放置在所述凹陷单元内,并且所述抗滑体的至少前表面侧填充颗粒尺寸材料以便形成颗粒尺寸材料层,同时,形成所述颗粒尺寸材料层的所述颗粒尺寸材料的内摩擦角具有的度数等于或大于支撑所述颗粒尺寸材料层的初始使用的地面材料的内摩擦角,并且

在所述颗粒尺寸材料层上,放置至少设置有前、后壁和连接所述前、后壁两者的连接体的砌块,并且同时,所述抗滑体的上部被放置成在所述砌块的所述前、后壁之间延伸于所述颗粒尺寸材料层的上方,在所述抗滑体的所述上部和所述砌块的所述前、后壁之间形成前、后空间,在所述前、后空间的各个空间中填充约束层形成材料以形成前、后约束层,从而使至少所述前约束层和所述颗粒尺寸材料层在上下方向上延续,并且其结果是,经所述抗滑体在上下方向上延续的所述前约束层和所述颗粒尺寸材料层施加反作用力,从而强化在所述颗粒尺寸材料层上安装的所述砌块的抗滑力。

2.一种在地基上固定安装的挡墙的基础单元结构,其中

所述地基中形成有凹陷单元,抗滑体放置在所述凹陷单元内,并且所述抗滑体的至少前表面侧填充颗粒尺寸材料以便形成颗粒尺寸材料层,同时,形成所述颗粒尺寸材料层的所述颗粒尺寸材料的内摩擦角具有的度数等于或大于支撑所述颗粒尺寸材料层的初始使用的地面材料的内摩擦角,并且

在所述颗粒尺寸材料层上,放置至少设置有前、后壁和连接所述前、后壁两者的连接体并且形成所述基础单元或所述挡墙的一部分的砌块,在所述砌块内注入并固化固化材料以便使所述砌块和所述抗滑体成为一体,从而使所述颗粒尺寸材料层对与所述砌块成为一体的所述抗滑体施加反作用力。

3.根据权利要求1或2所述的挡墙的基础单元结构,其中所述抗滑体的上部的左、右宽度形成为等于或窄于所述抗滑体的下部的左、右宽度。

4.根据权利要求1或2所述的挡墙的基础单元结构,其中在前后方向上间隔连接的所述抗滑体具有以向上延伸的方式形成的所述抗滑体中的至少一个抗滑体的上部,并且在相对的抗滑体之间形成的空间中,填充颗粒尺寸材料或约束层形成材料,以便形成所述颗粒尺寸材料层或所述约束层。

5.一种将基础单元布置在地基上并且将挡墙单元固定安装在所述基础单元上构建而成的挡墙的上、下边界的结构,其中

形成所述基础单元的一部分的砌块或者通过将所述挡墙单元一块叠另一块地堆叠而形成的各砌块至少具有前、后壁和连接所述前、后壁两者的连接体,

在通过一块叠另一块地堆叠形成的各上、下层面砌块的上、下边界面的位置处,在所述下层面砌块侧和上层面砌块侧的上方放置抗滑体,

在所述下层面砌块的前壁与所述下层面砌块侧上的所述抗滑体的一部分之间形成的空间中,填充作为块状物的约束层形成材料以形成下层面侧上的前约束层,同时,在所述下层面砌块侧上的所述抗滑体的一部分与在所述下层面砌块的后壁处或所述挡墙单元的背面形成的斜面之间形成的空间中,填充所述约束层形成材料以便形成下层面侧上的后约束层,同时

在所述上层面砌块的前壁与所述上层面砌块侧上的所述抗滑体的一部分之间形成的空间中,填充所述约束层形成材料以形成所述上层面侧上的前约束层,同时,在所述上层面砌块侧上的所述抗滑体的一部分与所述上层面砌块的后壁之间形成的空间中,填充所述约束层形成材料以形成所述上层面侧上的后约束层,从而

在所述上、下层面砌块的上、下边界面的位置处,使上、下层面前约束层在上下方向上延续,同时,使上、下层面后约束层在上下方向上延续,从而

使在上下方向上延续的所述前约束层和在上下方向上延续的所述后约束层经所述抗滑体施加反作用力,从而强化所述上、下边界面上的所述砌块的抗滑力。

6.根据权利要求5所述的挡墙的上、下边界的结构,其中所述抗滑体与所述砌块以不连接的状态放置。

7.根据权利要求5所述的挡墙的上、下边界的结构,其中所述抗滑体以连接的状态放置在上、下方向上邻接的所述上、下层面砌块中的所述下层面砌块中。

8.根据权利要求7所述的挡墙的上、下边界的结构,其中在所述抗滑体中,设置用于将连接所述砌块的所述前、后壁的所述连接体配合至所述抗滑体的端部的配合用凹陷单元,并且经所述配合用凹陷单元横向放置所述抗滑体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东荣商兴株式会社,未经东荣商兴株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880013289.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top