[发明专利]诸如挡墙的构造物的基础单元结构、挡墙的上下边界的结构和挡墙有效
申请号: | 200880013289.3 | 申请日: | 2008-03-03 |
公开(公告)号: | CN101668899A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 末松吉生;小松利光;安福规之 | 申请(专利权)人: | 东荣商兴株式会社 |
主分类号: | E02D29/02 | 分类号: | E02D29/02;E02D17/18 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 诸如 挡墙 构造 基础 单元 结构 上下 边界 | ||
技术领域
本发明涉及一种诸如挡墙(干垒挡墙、L形挡墙等)的构造物的基础单元,挡墙的上、下边界部以及用于防止挡墙滑动的结构。
背景技术
作为挡墙的一种方式,有通过在地面上布置基础单元并且在基础单元上固定地安装挡墙单元而形成的挡墙。
在这样的挡墙中,由诸如土压的水平外力引起的滑动力,被基础单元的下表面与地面的上表面之间产生的抗剪切力 相抵消。因此,通常,适当地算出基础单元的宽度以确保安全性。
然后,假设“提供刚性地面或基岩,或者确保与周围地面的贴合而不干扰地面”,并且在此条件下,在基础单元的下表面上设置突起的抗滑体。以此方式,能够对基础单元的宽度不能加宽的工地做出处置。
例如,现有技术是,在为L形挡墙的基础单元的基层的下表面上,连续地安装单独形成的抗滑体,以实现挡墙的抗滑作用(例如,参见专利文件1)。即,当构建这种L形挡墙时,挖掘用于埋入抗滑体的沟槽以形成在地面上,并且在沟槽中配合和放置预先形成的作为预制混凝土的抗滑体。以此方式,抗滑体连续地一体地安装在L形挡墙的基层上。
此时,在用于埋入抗滑体的沟槽中,挖掘地面的一部分以便形成能够易于在其中配合抗滑体的大小,并且在沟槽中放置抗滑体之后,在沟槽的前、后壁与抗滑体之间形成的间隙中填充诸如碎石的填充材料。
以此方式,使抗滑体施加被动土压力,从而提高挡墙的抗滑力。
此外,在通过在基础单元上一块叠另一块地堆叠多个挡墙砌块而形成的挡墙单元处,一对左右棒状防滑片在基础单元的上端表面前部的左右侧部向上突出,并且使形成最下层的挡墙砌块的前壁下部的左 右侧部接触两个防滑片,从而防止挡墙砌块向前方滑动。
此外,还在各挡墙砌块的上端表面前部的左右侧部,一对左右棒状防滑片向上突出,并且使与上层相邻接的挡墙砌块的前壁下部的左右侧部接触两个防滑片,从而防止各挡墙砌块向前方滑动(例如,参见专利文件2)。
专利文献1:日本专利第2669797号
专利文献2:日本未审查的专利申请公布号第2004-204669号
发明内容
本发明要解决的问题
(1)上述专利文件1中的挡墙存在下列问题:
即,设置抗滑体的场合的土方工程需要两次挖掘,即,首先将地面挖掘成凹形,然后,再度挖掘与抗滑体的大小匹配的专用埋置空间。
此时,作为埋置空间的沟槽的内面壁和沟槽附近的水平部难于充分压紧,因此,不能充分确保与周围地面的贴合。
因此,降低了地面所固有的作为地面材料的工程性能功能,结果,与前述“不干扰地面”的前提条件相矛盾。
此外,在不具有作为前提条件的刚性地面的情况下,尤其在其内摩擦角小并且排水性差的粘性地面中,即使如上所述在地基底面上设置抗滑体,也不能实现抗滑力的增强。
(2)上述专利文件2的挡墙存在下列问题:
即,在其中一对左右棒状防滑片在挡墙砌块的上端表面前部的左右侧部向上方突出的挡墙中,使与上层邻接的挡墙砌块的前壁下部的左右侧部接触两个防滑片,从而防止各挡墙砌块向前方滑动,当对各挡墙砌块作用的外力较大时,发挥作为防滑片的作用。然而,此时,应力集中于防滑片以及支撑这些片的周围部分,从而发生局部破坏。因此,自然地,这些防滑片的作用有限。
此外,在曲线施工中,圆弧的曲率半径依各段而不同,因此,产生下列缺陷:当无缝地连续设置挡墙砌块时,不能使上层挡墙砌块的前壁下部接触挡墙砌块中设置的一对左右防滑片两者。
因此,在曲线施工中,实际上难以以无缝、连续的方式铺设挡墙 砌块。
解决问题的手段
(1)本发明的第一方面是一种诸如在地基上固定安装的挡墙的构造物的基础单元结构,其中地基中形成有凹陷单元,并且抗滑体放置在凹陷单元内,在抗滑体的至少前表面侧填充颗粒尺寸材料以便形成颗粒尺寸材料层,并且同时,形成颗粒尺寸材料层的颗粒尺寸材料的内摩擦角具有的度数等于或大于支撑颗粒尺寸材料层的初始使用的地面材料的内摩擦角,并且颗粒尺寸材料层经抗滑体施加反作用力(被动),以便强化在颗粒尺寸材料层上安装的构造物的抗滑力。
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