[发明专利]透明隔离膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200880013854.6 申请日: 2008-03-04
公开(公告)号: CN101715466A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: M·法兰;T·沃格特;N·希勒;J·法尔泰克;W·肖恩伯格 申请(专利权)人: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C23C14/08;C23C16/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 透明 隔离 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.包括透明热塑性膜和至少一层防渗透层的透明隔离膜,其特征在 于,该防渗透层由元素锌、锡和氧的化学化合物构成,其中锌的质量含 量为5%-70%。

2.权利要求1的隔离膜,其特征在于,该防渗透层的厚度为20 nm-1000nm。

3.权利要求2的隔离膜,其特征在于,该防渗透层的厚度为50nm-300 nm。

4.上述权利要求之一的隔离膜,其特征在于,在朝向所述热塑性膜 的一面上的防渗透层具有至多5%的碳质量含量。

5.权利要求1的隔离膜,其特征在于,该隔离膜包括至少一层其它 层。

6.权利要求5的隔离膜,其特征在于,第一其它层为导电性的且具 有小于2x10-3Ω·cm的比电阻。

7.权利要求5的隔离膜,其特征在于,第二其它层含元素硅和碳, 其中碳质量含量为1%-10%。

8.用于制备包括透明热塑性膜和至少一层防渗透层的透明隔离膜的 方法,其特征在于,该防渗透层借助于真空涂覆法作为元素锌、锡和氧 的化学化合物进行淀积。

9.权利要求8的方法,其特征在于,该防渗透层的厚度为20nm-1000 nm。

10.权利要求9的方法,其特征在于,该防渗透层的厚度为50nm-300 nm。

11.权利要求8-10之一的方法,其特征在于,该防渗透层通过溅射 淀积。

12.权利要求11的方法,其特征在于,含锌和锡的合金的靶在引入 反应性气体氧的条件下溅射。

13.权利要求12的方法,其特征在于,借助调节回路控制氧的引入, 其中由溅射等离子体的光学发射谱确定调节量。

14.权利要求13的方法,其特征在于,确定由锌或锡的发射谱线和 所用惰性气体的发射谱线的商作为调节量。

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