[发明专利]具有黑化导电图形的EMI屏蔽玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种制备电磁干扰屏蔽玻璃的方法以及用该方法制备的电磁干扰屏蔽玻璃，所述电磁干扰屏蔽玻璃被黑化，同时保持了低的电阻率，以充分显示导电图形的电磁干扰屏蔽功能以便不影响显示器件的对比度。

本申请要求2007年5月10日在韩国知识产权局递交的第2007-0045278号韩国专利申请的优先权，其公开的内容以参考的方式全部并入本文。

背景技术

在相关技术中，为了屏蔽来自PDP(等离子显示面板)的有害电磁波，通过使用光刻法制备由铜材料构成的网格图形。

但是，由于光刻法复杂且原材料的成本高，所以制备成本高并且对于PDP滤光片的原材料来说是非常昂贵的。

然而，由于PDP和LCD(液晶显示器)在FPD(平板显示)市场的竞争日益加剧，因此有必要开发价格低廉的原材料，并且已经开发了通过采用网格图形用印刷法印刷导电胶的工艺，其中印刷法例如有丝网印刷法、胶印法等。

为了充分实现通过采用印刷法制备的电磁干扰屏蔽膜的特性，有必要充分降低用于进行印刷的导电胶的电阻率。

为了实现该目的，已开发了包含金属粉的导电胶的应用。但是，在通过胶印法采用导电胶印刷导电图形的情况下，由于金属的光泽，光和外部光被从PDP反射掉，这不利地影响了对比度。因此，需要进行导电图形的黑化处理。

发明内容

技术问题

因此，本发明的一个目的是提供一种制备电磁干扰屏蔽玻璃的方法以及通过使用该方法制备的黑化电磁干扰屏蔽玻璃，在该方法中，并没有形成膜型电磁干扰屏蔽部分，而是在玻璃的表面上直接形成了电磁干扰屏蔽部分，以简化结构和制备工艺。由于自由地控制烧制温度以充分进行烧制，从而确保了最佳的电导率，并且容易地将玻璃上形成的导电图形黑化。

具体地，本发明提供了一种制备电磁干扰屏蔽玻璃的方法以及通过使用该方法制备的黑化电磁干扰屏蔽玻璃，在该方法中，通过烧制步骤固定导电图形，不进行单独的黑化处理步骤，导电图形和玻璃之间的界面被黑化而未增大表面电阻。

另外，本发明提供了一种PDP滤光片以及包括该PDP滤光片的PDP器件，所述PDP滤光片包括根据本发明的黑化电磁干扰屏蔽玻璃；和额外地附在所述黑化电磁干扰屏蔽玻璃上的抗反射膜、近红外线屏蔽膜或色彩校正膜。

技术方案

本发明提供了一种制备黑化电磁干扰屏蔽玻璃的方法，该方法包括以下步骤：(a)用导电胶在扩散有锡(Sn)成分的玻璃表面上形成导电图形；和(b)烧制在其上形成有导电图形的玻璃。

本发明提供了一种黑化电磁干扰屏蔽玻璃，其包括玻璃，在该玻璃的至少一个表面扩散有锡成分；和导电图形，该导电图形在扩散有锡成分的玻璃表面上形成，其中，通过烧制在其上形成有导电图形的玻璃而将导电图形和玻璃之间的界面黑化。

本发明提供了一种PDP滤光片，该PDP滤光片包括根据本发明的黑化电磁干扰屏蔽玻璃；和附在所述黑化电磁干扰屏蔽玻璃的前面或后面并且选自抗反射膜、近红外线屏蔽膜和色彩校正膜中的至少一种膜。

本发明提供了包括根据本发明的PDP滤光片的PDP器件。

有益效果

根据本发明，提供了一种制备电磁干扰屏蔽玻璃的方法以及通过使用该方法制备的电磁干扰屏蔽玻璃，其中，导电图形和玻璃基板之间的界面被黑化而没有增大表面电阻，从而避免了由金属光泽引起的对比度的问题。

另外，由于在将导电图形固定到玻璃上的烧制过程中进行黑化处理工艺，就不再需要单独的黑化步骤。因此，通过所述电磁干扰屏蔽玻璃的制备方法和器件的简化，能够实现产率的提高。

具体实施方式

根据本发明的制备黑化电磁干扰屏蔽玻璃的方法包括以下步骤：(a)用导电胶在扩散有锡(Sn)成分的玻璃表面上形成导电图形；和(b)烧制在其上形成有导电图形的玻璃。

在步骤(a)中，在其上扩散有锡成分的玻璃可通过采用常规的浮法工艺(float process)来制备，在该方法中，将熔融的玻璃注入具有高比重的熔融锡的上表面上，以制备无凹凸部分的平板玻璃。

特别是，优选在扩散有锡成分的玻璃表面上形成导电图形。在将导电图形形成在相反一面的情况下，需要进行单独的黑化处理步骤。

在玻璃的表面上存在锡的情况下，通过使用卤灯根据锡的灰白外观可以验证它的存在。如果观察切割的侧面，当存在锡时，在有锡的一侧是光滑的。

在其上扩散有锡成分的玻璃中，玻璃中的锡以Sn²⁺或Sn⁴⁺离子状态存在。