[发明专利]光罩用基板、光罩用基板的成形构件、光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法有效

专利信息
申请号: 200880015374.3 申请日: 2008-04-22
公开(公告)号: CN101681092A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 阿边哲也;新田祐平;木村幸泰 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李今子
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光罩用基板 成形 构件 制造 方法 使用 曝光
【权利要求书】:

1.一种光罩用基板,是由厚度均一的板状构件构成的光罩用基 板,其特征在于:

具备由连续曲面构成的、待形成光罩图案的第1面、及与上述第 1面相对向的第2面;

上述第1面呈由相对向的一对第1组的边、及以连结该第1组的 边的方式延伸的相对向的一对第2组的边构成的四边形,沿着上述第 1组的各边的端部具有用以支持上述光罩用基板的支持部;

以上述第1面呈铅直状态的方式保持上述光罩用基板时,以通过 上述光罩用基板的重心且延伸于上述光罩用基板的厚度方向的轴线 与上述第1面相交的交点作为上述第1面的中心点;

将与上述中心点处的上述第1面的切平面平行的参照平面,定义 在上述第1面的前侧时,上述第1面的中心点与上述参照平面之间的 沿着上述厚度方向的第1距离,短于上述第2组的各边的中点与上述 参照平面之间的沿着上述厚度方向的第2距离。

2.如权利要求1所述的光罩用基板,其中,以上述第1面呈铅直 状态的方式保持上述光罩用基板时,在上述第2组的各边中,该边的 上述第1组的边侧的部分与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向的 距离短于上述第2距离。

3.如权利要求1所述的光罩用基板,其中,以上述第1面呈铅直 状态的方式保持上述光罩用基板时,对于上述第1组的各边上的任一 点,上述第1组的边一的点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向 的距离相同。

4.如权利要求1至3中任一项所述的光罩用基板,其中,以上述 第1面呈铅直状态的方式保持上述光罩用基板时,上述第1组的各边 的中点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向的距离与上述第1距 离相同。

5.如权利要求1至3中任一项所述的光罩用基板,其中,以上述 第1面呈铅直状态的方式保持上述光罩用基板时,上述第1组的各边 的中点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向的距离短于上述第1 距离。

6.如权利要求1所述的光罩用基板,其中,以上述第1面呈铅直 状态的方式保持上述光罩用基板时,对于上述第2组的各边上的任一 点,上述第2组的边上的点与上述参照平面之间的沿着上述厚度方向 的距离相同。

7.如权利要求1~3、6中任一项所述的光罩用基板,其具备用以 辨别上述第1面与上述第2面的标记。

8.如权利要求1~3、6中任一项所述的光罩用基板,其中,上述 基板由石英玻璃构成。

9.一种光罩,是使用权利要求1至8中任一项所述的光罩用基板 制作的光罩,其特征在于:

在上述第1面形成有光罩图案;

在上述支持部被曝光装置支持以便从上述第2面侧投射曝光用 光。

10.一种曝光方法,是使形成于权利要求9所述的光罩的光罩图 案曝光于晶片上的曝光方法,其特征在于:

从上述光罩的与形成有光罩图案的面相反侧的面投射曝光用光, 以上述形成有光罩图案的面朝向上述晶片侧的方式,在上述支持部被 曝光装置的光罩支持构件所支持的状态下进行曝光。

11.一种光罩用基板的成形构件,是对板状构件进行成形以形成 光罩用基板的成形构件,其特征在于:

具备用以对上述板状构件进行成形的成形面,上述成形面呈由连 续曲面构成的、相对向的一对第1组的边、及以连结上述第1组的边 的方式延伸的相对向的一对第2组的边所构成的四边形;

以连结上述第1组的各边的中点的直线及连结上述第2组的各边 的中点的直线的交点作为上述成形面的中心点;

将与上述中心点处的上述成形面的切平面平行的参照平面,定义 在上述成形面的前侧时,上述成形面的中心点与上述参照平面之间的 沿着上述切平面的法线方向的第1距离,短于上述第2组的各边的中 点与上述参照平面之间的沿着上述法线方向的第2距离。

12.如权利要求11所述的光罩用基板的成形构件,其中,在上述 第2组的各边中,该边的上述第1组的边侧的部分与上述参照平面之 间的沿着上述法线方向的距离短于上述第2距离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880015374.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top