[发明专利]光罩用基板、光罩用基板的成形构件、光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法

说明书

【技术领域】

平面面板显示器(以下，称为FPD)等设备，是通过使用光刻技术， 使形成于光罩(photo mask)的光罩图案(mask pattern)高精度投影曝 光于设备基板的表面来制造。因此，光罩变形时形成于光罩的光罩图 案也会产生变形，其结果，投影于设备基板的光罩图案像也会产生变 形。

因此，探讨下述课题，即为了提升光罩的平坦性，进行除去光罩 基板的一部分凸部分的加工，以改善基板的平面性(参照专利文献1、 专利文献2、及专利文献3)。

专利文献1：日本特开2003-292346

专利文献2：日本特开2004-359544

专利文献3：日本特开2005-262432

然而，通过使形成于光罩的光罩图案投影曝光于基板来制造FPD 等设备的曝光装置中，已知一边以形成有光罩图案的面朝向下方的方 式将光罩大致水平地保持在曝光装置，一边使形成于光罩的光罩图案 曝光于基板。此时，由于曝光装置的构成上的限制，光罩在包围下面 (亦即形成有光罩图案的面)的四边之中，相对向的一组两个边附近的 区域被支持。以此方式被支持的光罩，被支持的一组边之间的区域， 会因本身重量向下面侧弯曲而下垂般地变形。此处，将此变形称为第 1变形。又，同时，在未被支持的两个边(自由端)的附近，会进一步 向下方弯曲而下垂般地变形。此处，将此变形称为第2变形。由于此 种光罩的变形，形成于光罩下面的光罩图案也恐怕会产生如上述说明 的变形。

为了使如此变形的光罩图案正确地成像、曝光于基板上，曝光装 置的投影光学系统具有自动聚焦功能。然而，投影光学系统的自动聚 焦功能的聚焦深度对第1变形有效，但相对于此，第2变形造成的影 响有超过聚焦深度的范围的倾向。又，伴随光罩的大型化，第2变形 显著变大，产生进一步自投影光学系统的聚焦深度的范围内脱离的问 题。

相对于此问题，即使专利文献1～3所探讨般地使平面性良好， 也无法应对因基板本身重量而变形的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种可抑制因本身重量导致的光罩基板 的第2变形所引起的光罩基板的从所期望的光罩图案的变形，使光罩 图案投影曝光于设备基板上的光罩用基板、光罩用基板的成形构件、 光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法。

本发明的光罩用基板，是由厚度实质上均一的板状构件构成的光 罩用基板，其特征在于：具备由连续曲面构成的、待形成光罩图案的 第1面、及与第1面相对向的第2面；第1面呈由相对向的一对第1 组的边、及以连结该第1组的边的方式延伸的相对向的一对第2组的 边构成的四边形，沿着第1组的各边的端部具有用以支持光罩用基板 的支持部；以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时，以 通过光罩用基板的重心且延伸于光罩用基板的厚度方向的轴线与第1 面相交的交点作为第1面的中心点；将与中心点处的第1面的切平面 平行的参照平面，定义在对光罩用基板而言比第2面接近第1面的一 侧时，第1面的中心点与参照平面之间的沿着厚度方向的第1距离， 短于第2组的各边的中点与参照平面之间的沿着厚度方向的第2距 离。此处，本说明书的切平面，是包含在曲面上的一点处、与此曲面 相切的所有切线的平面。

以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时，在第2 组的各边中，该边的第1组的边侧的部分与参照平面之间的沿着厚度 方向的距离短于第2距离也可。又，以第1面实质上呈铅直状态的方 式保持光罩用基板时，对于第1组的各边上的任一点，该第1组的边 上的点与参照平面之间的沿着厚度方向的距离实质上相同也可。

以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时，第1组的 各边的中点与参照平面之间的沿着厚度方向的距离与第1距离实质上 相同也可。

以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时，第1组的 各边的中点与参照平面之间的沿着厚度方向的距离短于第1距离也 可。

以第1面实质上呈铅直状态的方式保持光罩用基板时，对于第2 组的各边上的任一点，该第2组的边上的点与参照平面之间的沿着厚 度方向的距离实质上相同也可。

上述光罩用基板中，具备用以辨别第1面与第2面的标记也可。 上述光罩用基板中，基板由石英玻璃构成也可。