[发明专利]薄膜传送装置和卷绕式真空成膜方法

权利要求书

1.一种在真空空腔内传送基膜的薄膜传送装置，其特征在于：

包括卷放辊、卷收辊和传送机构，所述传送机构设置在所述卷放 辊和所述卷收辊之间，并具有引导单元，所述引导单元包括导向辊 和辅助辊，所述导向辊设置在所述卷放辊和所述卷收辊之间，并具 有用来支承所述基膜的两个侧缘部的一对环形导向部，所述辅助辊 与所述导向辊以互相面对的方式设置，由该辅助辊将所述基膜的两 个侧缘部压向所述一对导向部。

2.根据权利要求1所述的薄膜传送装置，其特征在于：

在所述卷放辊和所述卷收辊之间，还具有下列机构的其中之一： 对所述基膜进行成膜处理的成膜机构，对所述基膜进行加热处理的 加热机构或对所述基膜进行等离子处理的等离子处理机构。

3.根据权利要求1所述的薄膜传送装置，其特征在于：

所述辅助辊具有一对环形的压紧部，该压紧部分别将所述基膜的 两个侧缘部同时压在所述一对导向部上。

4.根据权利要求1所述的薄膜传送装置，其特征在于：

设置有2个所述的辅助辊，该辅助辊分别独立地将所述基膜的两 个侧缘部压在所述一对导向部上。

5.根据权利要求1所述的薄膜传送装置，其特征在于：

所述传送机构具有紧贴着所述基膜的非成膜表面并且对其进行 冷却或加热处理的主辊，所述导向辊设置在所述主辊和所述卷收辊 之间。

6.一种卷绕式真空成膜方法，其特征在于：

在真空环境中连续移送基膜，对所述基膜的至少一个表面进行成 膜处理，夹持着经成膜处理后的基膜的两个侧缘部，将所述基膜朝 向卷收部传送。