[发明专利]薄膜传送装置和卷绕式真空成膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种薄膜传送装置和卷绕式真空成膜方法，其可一边在真空环境中连续移送基膜并对被传送的上述基膜进行成膜处理、加热处理或等离子处理等，一边连续卷收经过处理的该基膜。 

背景技术

人们公知现有技术中的如下一种卷绕式真空蒸镀方法(例如参照下述专利文献1)：一边将从卷放辊上连续移送过来的长条状的基膜卷绕到冷却辊上，一边将来自设置在该冷却辊对面位置的蒸发源中的蒸镀物质蒸镀到基膜上，蒸镀后的基膜则被卷收到卷收辊上。 

图5是表示这种现有技术中的卷绕式真空蒸镀装置的大致结构的示意图。在该图中，符号1表示真空空腔，符号2表示卷放辊，符号3表示冷却(或加热)辊(主辊)，符号4表示卷收辊，符号5表示蒸发源。在卷放辊2和主辊3之间设置有导向辊6A、6B，而在主辊3和卷收辊4之间设置有导向辊7A、7B。 

基膜F为塑料薄膜或金属箔等，其从卷放辊2上连续移送过来并经导向辊6A、6B而提供给主辊3。这样，基膜F由于卷绕主辊3被其冷却(或加热)，在这种状态下，会对基膜F的面对蒸发源5的位置的一个表面进行成膜处理。经过成膜处理后的基膜F会经导向辊7A、7B而连续卷收到卷收辊4上。 

【专利文献1】日本发明专利公报第3795518号 

【专利文献2】日本发明专利公开公报特开2004-87792号 

一般情况下，构成上述卷绕式真空蒸镀装置的导向辊采用如图6所示的结构，图6所示的导向辊8具有圆柱形辊表面8a，辊表面8a接触基膜F的一个表面并对基膜F的行进进行引导。与辊表面8a接 触并被其支承的基膜F的表面，会因在卷绕式真空蒸镀装置内的导向辊的设置地点的不同而不同，如图5所示，基膜F的成膜表面会接触导向辊6B、7A的辊表面，而基膜F的非成膜表面则会接触导向辊6A、7B的辊表面。 

但是由于蒸镀材料的种类、成膜形态或上述装置的使用条件等的不同，会出现不可让基膜F的成膜区域接触导向辊的辊表面的情况。因为导向辊的辊表面接触基膜F的成膜区域时，则会出现导致其成膜部上产生微小划痕的问题。这里所说的“成膜区域”，主要是指基膜的除了两个侧缘部以外的部分。 

这时，可以考虑采用如下方法来处理：在真空蒸镀装置结构中，不使用图5所示的导向辊6B、7A，而采用例如图7所示的仅仅支承基膜F的非成膜表面的结构，这时的基膜F的成膜表面就不会接触到导向辊。但在这种方法中，各个辊的设置位置会受到限制，从而使上述装置在结构上受到很大的限制。 

另外，还可以采用下述方法来处理：使接触基膜F的成膜表面的导向辊的结构为图8中A所示的结构(例如参照上述专利文献2)。在图8中A所示的导向辊9的圆柱形辊表面9a上，设置有一对突出的环形导向部9b，两个环形导向部9b互相隔开一定距离用来支承基膜F的两个侧缘部。由于导向部9b只支承基膜F的非成膜区域或作为其非使用范围的两个侧缘部，所以可避免基膜F的成膜区域Fc接触到辊表面9a。 

但上述结构有如下技术问题：因被传送的基膜F的形状呈长条形，而且在施加了张力的状态下被传送，所以如图8中B所示，被传送的基膜F的中央部会产生弯曲，因而出现其成膜区域Fc接触到导向辊9的辊表面9a的情况。而且，上述结构无法实现对基膜F的行进进行平稳地引导的功能，从而出现如下问题：基膜F的行进线路发生紊乱，影响基膜F的卷收。 

发明内容

鉴于上述技术问题，本发明的目的在于提供一种薄膜传送装置和卷绕式真空成膜方法，其可以保护基膜的成膜区域，而且可以使基膜能够平稳地传送。 

为了实现上述目的，在本发明的一种实施方式中所述的薄膜传送装置，其为用来在真空空腔内传送基膜的薄膜传送装置，包括卷放辊、卷收辊和传送机构。上述传送机构设置在上述卷放辊和上述卷收辊之间，并具有引导单元。该引导单元包括导向辊和辅助辊，该导向辊设置在所述卷放辊和所述卷收辊之间，并具有用来支承上述基膜的两个侧缘部的一对环形导向部，上述辅助辊面向上述导向辊设置，将上述基膜的两个侧缘部压向上述一对导向部。 

本发明的一种实施方式中的卷绕式真空成膜方法包括在真空环境中连续移送基膜的情况，对上述基膜的至少一个表面进行成膜处理，该基膜在其两个侧缘部被夹持的状态下朝向卷收部传送。 

附图说明

图1是表示作为本发明的第一实施方式中的卷绕式真空成膜装置的卷绕式真空蒸镀装置的大致结构的示意图。 

图2是表示图1中的卷绕式真空蒸镀装置的主要部位的结构示例的侧视图。