[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料

权利要求书

1.一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具有结合有含氟有机基团的硅原子 的聚硅氧烷A、碳数在20以下的直链状的脂肪族胺化合物B、整体的碳数在20以下且其结 构中具有碳数10以下的环状基团的胺化合物C， 所述聚硅氧烷A、脂肪族胺化合物B、胺化合物C被溶解于有机溶剂D。

2.如权利要求1所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷A相对于其所有硅原子具有5～40 摩尔％结合有含氟有机基团的硅原子。

3.如权利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，脂肪族胺化合物B为伯胺。

4.如权利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，胺化合物C以下述式(1)表示；

R₁——R₂——NH₂(1)

式中，R₁为碳数3～10的环状基团，R₂表示单键或碳数1～17的亚烷基。

5.如权利要求3所述的涂布液，其特征在于，胺化合物C以下述式(1)表示；

R₁——R₂——NH₂(1)

式中，R₁为碳数3～10的环状基团，R₂表示单键或碳数1～17的亚烷基。

6.如权利要求1、2或5所述的涂布液，其特征在于，有机溶剂D包括选自碳数为1～6 的醇和碳数为3～10的二元醇醚的至少1种。

7.如权利要求3所述的涂布液，其特征在于，有机溶剂D包括选自碳数为1～6的醇和碳 数为3～10的二元醇醚的至少1种。

8.如权利要求4所述的涂布液，其特征在于，有机溶剂D包括选自碳数为1～6的醇和碳 数为3～10的二元醇醚的至少1种。

9.如权利要求1、2、5、7或8所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷A的含量以其所具 有的硅原子的总量换算成二氧化硅计为0.1～15质量％，直链胺化合物B和胺化合物C的 含量相对于总量1摩尔的聚硅氧烷A的硅原子都为0.01～0.2摩尔。

10.如权利要求3所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷A的含量以其所具有的硅原子的 总量换算成二氧化硅计为0.1～15质量％，直链胺化合物B和胺化合物C的含量相对于总 量1摩尔的聚硅氧烷A的硅原子都为0.01～0.2摩尔。

11.如权利要求4所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷A的含量以其所具有的硅原子的 总量换算成二氧化硅计为0.1～15质量％，直链胺化合物B和胺化合物C的含量相对于总 量1摩尔的聚硅氧烷A的硅原子都为0.01～0.2摩尔。

12.如权利要求6所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷A的含量以其所具有的硅原子的 总量换算成二氧化硅计为0.1～15质量％，直链胺化合物B和胺化合物C的含量相对于总 量1摩尔的聚硅氧烷A的硅原子都为0.01～0.2摩尔。

13.如权利要求1、2、5、7、8、10、11或12所述的涂布液，其特征在于，还包含以式(2) 表示的硅化合物E；

式中，R¹、R²、R³和R⁴分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上 的整数。

14.如权利要求3所述的涂布液，其特征在于，还包含以式(2)表示的硅化合物E；

式中，R¹、R²、R³和R⁴分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上的 整数。