[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料

说明书

技术领域

本发明涉及包含聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由上述涂布液形成的低折射率被膜及具有该被膜的防反射材料。

背景技术

目前，已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的折射率 的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。并且，这样的呈现下 降了的光反射率的低折射率被膜被用作防光反射膜用于各种基材表面。

例如，专利文献1中揭示了以下的方法：将使作为Mg源的镁盐或烷氧基 镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应而生成的MgF₂微粒的醇分散液或者为 了提高膜强度在该分散液中加入四烷氧基硅烷等而得的液体作为涂布液， 将该涂布液涂布于玻璃基材上，在100～500℃的温度下进行热处理，在基 材上形成呈现低折射率的防反射膜。

此外，专利文献2中揭示了以下的方法：将平均分子量不同的2种以上 的四烷氧基硅烷等的水解缩聚物与醇等溶剂混合而制成涂布液，在由该涂 布液形成被膜时附加上述混合时的混合比例、相对湿度的控制等手段来制 作被膜。被膜通过在250℃以上的温度下加热而得到，呈现1.21～1.40的折 射率，具有直径为50～200nm的微坑(micropit)或凹凸，厚度为60～160nm。 该被膜形成于玻璃基板上而制得低反射玻璃。

此外，专利文献3中揭示了包括玻璃、形成于其表面的具有高折射率的 下层膜和进一步形成于该下层膜表面的具有低折射率的上层膜的低反射率 玻璃。上层膜的形成通过以下的方法进行：在乙酸等催化剂的存在下使 CF₃(CF₂)₂C₂H₄Si(OCH₃)₃等具有多氟烃链的含氟硅氧烷化合物与相对于其为 5～90质量％的Si(OCH₃)₄等硅烷偶联剂在醇溶剂中于室温下水解后，过滤， 将由此制成的共缩合物的溶液涂布于上述下层膜上，在120～250℃的温度 下加热。

此外，专利文献4中揭示了如下形成的涂布液：通过将以特定比例包含 以Si(OR)₄表示的硅化合物、以CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹)₃表示的硅化合物、以R ²CH₂OH表示的醇和乙二酸的反应混合物在不存在水的条件下于40～180℃的 温度下加热，从而生成聚硅氧烷的溶液，由该溶液形成涂布液。将该涂布 液涂布于基材表面，在80～450℃的温度下使其热固化，从而形成具有1.2 8～1.38的折射率和90～115度的水接触角的被膜。

专利文献1：日本专利特开平05-105424号公报

专利文献2：日本专利特开平06-157076号公报

专利文献3：日本专利特开昭61-010043号公报

专利文献4：日本专利特开平09-208898号公报

发明的揭示

对于如上所述的被用于各种显示装置等的防反射膜，近年来在液晶和 等离子体等的显示装置的大型化、轻量化和薄型化的过程中，基于轻量化 和高透明化等目的，用于其的防反射基材、特别是防反射膜有减小膜厚的 趋势，因此产生因热量造成的破坏加剧的问题。因此，比以往更迫切地需 要可通过膜不会受到破坏的程度的低温处理获得防反射基材且在较低温度 下固化的热固型的被膜形成用涂布液。然而，如上所述的以往的低折射率 被膜的固化温度并不足够低，希望进一步降低固化温度。

另外，上述的被用于各种显示装置等的防反射膜通过在带硬膜的三乙 酰纤维素膜或带硬膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等膜基材的表面形成折射 率低于该基材的被膜而得到。该情况下，根据硬膜的材质和亲水化处理等 表面处理的有无，形成低折射率被膜的基材膜的表面的水接触角具有各种 大小，但以往难以在水接触角高的基材膜上形成耐擦伤性良好的高硬度的 低折射率被膜。

于是，本发明的目的在于提供保存稳定性良好、通过低温的加热处理 可充分固化、可形成低折射率且耐擦伤性良好的被膜的涂布液，该涂布液 的高效的制造方法，由该涂布液得到的被膜以及使用该被膜的防反射膜等 防反射材料。