[发明专利]用于紫外线曝光装置的真空吸附器有效
| 申请号： | 200880016270.4 | 申请日： | 2008-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101730865B | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 李秉锡;姜相年;金炳燮 | 申请（专利权）人： | KSE株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 紫外线 曝光 装置 真空 吸附 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器，包括：
聚酯薄膜层；
丙烯酰胺树脂板；
固定框架，具有在一侧面固定聚酯薄膜层的聚酯薄膜载置部，和为了在 上述聚酯薄膜载置部的另一侧面固定上述丙烯酰胺树脂板从而能够在真空状 态用上述丙烯酰胺树脂板按压上述聚酯薄膜层的丙烯酰胺树脂板固定部，
在真空状态，上述丙烯酰胺树脂板按压上述聚酯薄膜层，从而将上述聚 酯薄膜层紧贴在位于印刷电路板的上表面的掩膜。
2.根据权利要求1所述的用于紫外线曝光装置的真空吸附器，其特征在 于，
在上述聚酯薄膜载置部的一侧形成用于插入上述聚酯薄膜的端部的槽，
还包括可插入到上述槽内的塞子，用于将上述聚酯薄膜固定在上述槽内。
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